2011年5月27日（金） 13:30-17:30
第136回 研究集会
2011年2月27日から3月3日に米国サンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2011のレビューを行なう。今回は分野毎の概要報告とトピックスに関して、各分野の専門家にご講演を頂く。
開催場所
海事センタービル
（東京都千代田区麹町4-5）| テーマ | SPIE Advanced Lithography 2011特集 |
|---|---|
| オーガナイザー | 古澤孝弘（大阪大学） |
プログラム
(1) 会議全体報告 （EUVA 岡崎信次）
(2) Optical Microlithography （ニコン 今井基勝）
(3) EUV Lithography （キヤノン 三宅 明）
(4) Advances in Resist Materials and Processing Technology （東京応化工業 平山 拓）
(5) Metrology, Inspection, and Process Control （日立ハイテクノロジーズ 加藤 毅）
(6) Alternative Lithographic Technologies （東芝 木原尚子）
(7) Design for Manufacturability through Design-Process Integration （東芝 野嶋茂樹）