７月１５日(月)

総合講演
10:00-10:10 　開会の辞
堀池靖浩 (東大)

10:10-10:50 　日本の半導体産業再興を目指して
西村吉雄 (東大)

10:50-11:30 半導体デバイス開発戦略
松澤 昭 (松下)

F2リソグラフィ
11:30-12:00 　SELETEのF2リソグラフィ開発状況
井谷俊郎 (SELETE)

12:00-13:10 昼食

13:10-13:40　 F2リソグラフィ装置技術
羽田英夫 (CANON)

13:40-14:10　 F2用レジスト
岸村眞治 (松下)

X線リソグラフィ
14:10-14:40 第二世代PXL技術
炭谷博昭 （三菱）

14:40-15:10　 X-Ray Lithography Activities in the USA
K. Mason (JMAR/SAL)

15:10-15:30　 休憩

フォトマスク
15:30-16:00 光露光用マスク技術（超解像/光近接効果補正）
法元盛久 (大日本印刷)

16:00-16:30 マスク描画装置の現状と課題
東條徹 (東芝)

16:30-17:00 　マスク検査技術
渡壁弥一郎 (レーザテック)

17:20-19:20 　懇親会

7月１６日（火）

EUVリソグラフィ
10:00-10:30 The EUVL Engineering Test Stand: Recent results from the alpha-class full-field projection scanner
D. Tichenor (Sandia Nat. Lab.)

10:30-11:00 EUV露光装置技術
村上勝彦 (NIKON)

11:00-11:30　ASETでのプロセス開発状況
西山岩男 (ASET)

11:30-12:00 EUV光源
富江敏尚 (産総研)

12:00-13:10　昼食

ナノインプリント
13:10-13:40　ナノインプリントの動向
古室昌徳 (産総研)

EBリソグラフィ
13:40-14:10　低加速EB直描装置
安藤厚司 (東芝)

14:10-14:40　マルチ電子ビーム露光装置用電磁レンズの開発
安田洋 (アドバンテスト)

14:40-15:10　EBステッパー(EPL)
山口武 (ニコン)

15:10-15:30　休憩

15:30-16:00　低加速等倍EB転写 (LEEPL) 装置
遠藤章裕 (LEEPL)

16:00-16:30　電子線用マスク技術
雨宮勲 (HOYA)

16:30-17:00 EPL用マスクデータ変換技術
山下浩 (SELETE)

17:00-17:30 LEEPL用ステンシルマスク
栗原健二 (NTT-AT)

17:30　閉会