第11回講演会 (2012.3 芝浦工大)

日時：2012年3月14日(水) 13:00～17:00
場所：芝浦工業大学
後援：東京エレクトロン株式会社　　

13:00～13:10「開会の辞，趣旨説明」真田俊之(静岡大学)
13:10～14:00「招待講演：固体面近傍における水のミクロの濡れと局所的な動的挙動に関する分子動力学解析」山口康隆(大阪大学)
14:00～14:50「招待講演：接触線運動における微視的物理」伊藤高啓(豊橋技術科学大学)
15:10～16:00「招待講演：気液界面で蒸発・凝縮を伴う流動現象に関する分子論的アプローチ」小林一道(北海道大学)
16:00～16:50「招待講演：電子顕微鏡応用技術によるナノ空間の流体計測の可能性」居波渉(静岡大学)
16:50～16:55「閉会の辞」上野和良(芝浦工業大学)
17:30～19:30「懇親会(カサロス)」

第2回セミナー「チャージアップ現象」(2011.12)

本セミナーは以下の通り開催しました．

目的：本セミナーは，若手技術者に半導体生産工程における「チャージアップ現象」の基礎を理解いただくとともに，半導体先端デバイス生産現場におけるチャージアップの影響について紹介し，大学においてはどのような研究がなされているか，産学関係者が集い，学び，情報共有ができる「場」を提供します．
後援：大日本スクリーン製造株式会社
日時：2011年12月6日（火）13:00～16:30
場所：新宿文化センター4F第1会議室
プログラム：
①13:00～13:05「開会の辞」真田俊之(静岡大学)
②13:05～13:15「チャージアップの問題点」田中盛光(ルネサスエレクトロニクス)
③13:15～13:25「水のチャージアップWG活動紹介」宮城雅宏(大日本スクリーン製造)
④13:25～14:05「研究紹介」八塚京子(山形大学)
⑤14:05～14:45「研究紹介」下川博文(神奈川工科大学)
⑥15:00～15:40「チャージアップの基礎と対策（仮題）」藤江昭雄(ESDコンサルタント)
⑦15:40～16:20「チャージアップの基礎と対策（仮題）」鈴木政典(テクノ菱和)
⑧16:20～16:30「閉会の辞」矢野大作(オルガノ)
⑨17:00～19:00「懇親会」

第1回セミナー「物理洗浄」

日時：(不明)
場所：(不明)
プログラム：
「MOSFET性能と洗浄技術」冨田寛(東芝)
「物理洗浄概説と蒸気2流体への応用」真田俊之(静岡大学)
「二流体ジェット洗浄と溶存ガス水メガソ洗浄」菅野至(ルネサスエレクトロニクス)
パネルディスカッション「物理洗浄の本質に迫る」モデレーター 佐藤雅伸(大日本スクリーン製造)

第10回研究会 [応物シンポジウム] (2011.8 山形)

■固液界面現象の最前線 － 青木秀充先生追悼シンポジウム

日時：2011年8月29日(月)13：30～16：15
場所：山形大学 小白川キャンパス

「電解水から機能水へ ― 青木先生と探ったエコ洗浄」山中弘次(オルガノ株式会社)
「青木先生と研究開発した洗浄プロセス」富盛浩昭(ルネサスエレクトロニクス株式会社)
「電解硫酸によるレジスト剥離(Part2)」永井達夫(栗田工業株式会社)
「枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液膜挙動解析その２」冨田寛(株式会社東芝)
「レジスト膜の機械的強度測定と蒸気二流体による剥離」真田俊之(静岡大学)
「水のチャージアップWGの総括(2)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

第8回研究会 (2010.9 長崎)

■ECOに対する取り組み

日時：2010年9月15日
場所：長崎県勤労福祉会館

「製造装置メーカにおけるCO2削減取り組み」星丈治(東京エレクトロン株式会社)
「純水回収・再利用」塚本和巳(栗田工業株式会社)
「LSI製造メーカーにおける薬品の省資源化/再資源化の取組」稲垣靖史(ソニー株式会社)
「りん酸の再生，モニタリングについて」三田村塁(アプリシアテクノロジー株式会社)
「F化合物のリサイクルについて」清水和彦(オルガノ株式会社)
「チャージアップの中間報告(ワーキンググループ)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)