第2回セミナー「チャージアップ現象」(2011.12)

本セミナーは以下の通り開催しました．

目的：本セミナーは，若手技術者に半導体生産工程における「チャージアップ現象」の基礎を理解いただくとともに，半導体先端デバイス生産現場におけるチャージアップの影響について紹介し，大学においてはどのような研究がなされているか，産学関係者が集い，学び，情報共有ができる「場」を提供します．
後援：大日本スクリーン製造株式会社
日時：2011年12月6日（火）13:00～16:30
場所：新宿文化センター4F第1会議室
プログラム：
①13:00～13:05「開会の辞」真田俊之(静岡大学)
②13:05～13:15「チャージアップの問題点」田中盛光(ルネサスエレクトロニクス)
③13:15～13:25「水のチャージアップWG活動紹介」宮城雅宏(大日本スクリーン製造)
④13:25～14:05「研究紹介」八塚京子(山形大学)
⑤14:05～14:45「研究紹介」下川博文(神奈川工科大学)
⑥15:00～15:40「チャージアップの基礎と対策（仮題）」藤江昭雄(ESDコンサルタント)
⑦15:40～16:20「チャージアップの基礎と対策（仮題）」鈴木政典(テクノ菱和)
⑧16:20～16:30「閉会の辞」矢野大作(オルガノ)
⑨17:00～19:00「懇親会」

第1回セミナー「物理洗浄」

日時：(不明)
場所：(不明)
プログラム：
「MOSFET性能と洗浄技術」冨田寛(東芝)
「物理洗浄概説と蒸気2流体への応用」真田俊之(静岡大学)
「二流体ジェット洗浄と溶存ガス水メガソ洗浄」菅野至(ルネサスエレクトロニクス)
パネルディスカッション「物理洗浄の本質に迫る」モデレーター 佐藤雅伸(大日本スクリーン製造)

第10回研究会 [応物シンポジウム] (2011.8 山形)

■固液界面現象の最前線 － 青木秀充先生追悼シンポジウム

日時：2011年8月29日(月)13：30～16：15
場所：山形大学 小白川キャンパス

「電解水から機能水へ ― 青木先生と探ったエコ洗浄」山中弘次(オルガノ株式会社)
「青木先生と研究開発した洗浄プロセス」富盛浩昭(ルネサスエレクトロニクス株式会社)
「電解硫酸によるレジスト剥離(Part2)」永井達夫(栗田工業株式会社)
「枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液膜挙動解析その２」冨田寛(株式会社東芝)
「レジスト膜の機械的強度測定と蒸気二流体による剥離」真田俊之(静岡大学)
「水のチャージアップWGの総括(2)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

第8回研究会 (2010.9 長崎)

■ECOに対する取り組み

日時：2010年9月15日
場所：長崎県勤労福祉会館

「製造装置メーカにおけるCO2削減取り組み」星丈治(東京エレクトロン株式会社)
「純水回収・再利用」塚本和巳(栗田工業株式会社)
「LSI製造メーカーにおける薬品の省資源化/再資源化の取組」稲垣靖史(ソニー株式会社)
「りん酸の再生，モニタリングについて」三田村塁(アプリシアテクノロジー株式会社)
「F化合物のリサイクルについて」清水和彦(オルガノ株式会社)
「チャージアップの中間報告(ワーキンググループ)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

第7回研究会 [研究会昇格記念講演会] (2010.3 横浜)

■表面評価技術(NICE研究会昇格記念講演会)

日時：2010年3月19日
場所：市従会館(横浜市)
資料：第7回研究会講演集 巻頭言

「洗浄技術の時代がやってきた」湯之上隆(株式会社エフエーサーブ)
「半導体製造装置開発における分析/検査技術」斉藤美佐子(東京エレクトロン株式会社)
「サブ40nm世代向けアンパターンウェーハ検査技術」玉木裕介(ケーエルエー・テンコール株式会社)
「シリコンウェーハの欠陥検出と欠陥レビュー」太田英夫(株式会社日立ハイテクノロジーズ)
「汚染物質回収装置の変革～疎水面自動回収から親水面自動回収の時代へ～」櫻井良夫(有限会社NAS技研)
「化学汚染制御技術」吉澤巌(株式会社ダン・タクマ)
「ウェーハ上の表面分析技術」藪本周邦(分析工房株式会社)