第18回講演会 [第1回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2016] (2016.10 上諏訪)

界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．更なる発展のために活発な議論，関係者の交流，若手技術者の育成などを目的とし合宿形式の第1回フォーラムを開催しました．

日時：2016年10月28日(金)13:00～29日(土)12:00
会場： 信州上諏訪温泉「浜の湯」
資料：案内パンフレット

■1日目(10月28日)
開会挨拶：真田俊之(静岡大)
基調講演「裏面照射型CMOSイメージセンサ開発経緯と今後の展望」岩元勇人(ソニー)
基調講演「極薄水膜内の固体表面の原子スケール周波数変調AFM観察」新井豊子(金沢大)
「UCPSS 2016レポート」真田俊之(静岡大) 他
基調講演「人工知能と半導体プロセス」湯之上隆(微細加工研究所)
第21回カサロス(懇親会) 兼 ランプセッション ～半導体の未来を語り合う～
■2日目(10月29日)
招待講演「研究開発者・技術者のマネジメント」田中秀樹(青森公立大)
招待講演「水の話」山中弘次(オルガノ・長岡技科大)
ラウンドテーブルセッション(ポスターセッション)
閉会挨拶：冨田寛(東芝)

第2回ポスター発表展 (2016.3 慶應大)

日時：2016年3月18日(金) 13:00～17:30
会場： 慶應義塾大学 日吉キャンパス(来往舎)
資料：案内パンフレット

(1)13:00～13:15「開会の辞」吉水康人(東芝)
(2)13:15～13:45「各発表者から1分間のショートプレゼン」
(3)14:00～16:20「ポスターセッション」
(4)16:30～16:45「表彰」「写真撮影」
(5)16:45～17:00「閉会の辞」

本ポスター発表展にて，優秀講演賞には近藤智貴氏(慶應義塾大学)が選ばれました．また本会において，貢献賞を冨田寛氏(株式会社東芝)，岩元勇人氏(ソニー株式会社)に授与しました．ポスター発表展終了後には第20回カサロス(懇親会)を開催しました．

第5回吸着WG検討会 (2016.2)

日時：2016年2月3日(水) 13：30～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
基調講演 有馬健太准教授(大阪大学)
「極限レベルの表面創成プロセスとクリーン化技術」
ワークショップ 永渕琢也氏(日本インテグリス)

CROSS東海およびJ-PARC訪問 (2016.1)

2016年1月5日に当研究会メンバーが茨城県東海村のCROSS東海(総合科学研究機構 東海事業センター )およびJ-PARC(大強度陽子加速器施設)を訪問しました．J-PARCでは世界最高クラスの陽子ビームで生成する2次粒子(中性子・ミュオン・K中間子・ニュートリノなど)を用いた様々な実験を行うことができ，界面現象の解明にも用いられています．大学研究機関はもちろんのこと，民間企業の利用も可能とのことですので，何か課題があれば一度CROSS東海へご相談されてみてはいかがでしょうか．

第17回講演会 [応物シンポジウム] (2015.9 名古屋)

本講演会は2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界面ナノ電子化学　進化する半導体ウェットプロセス　～シリコンから化合物まで～」として開催されました．

日時：2015年9月13日(水) 13:15～17:45
会場： 名古屋国際会議場

「オープニング：界面ナノ電子化学研究会の意義」荒木浩之(SCREEN SPE)
招待講演「パワーを制する者が未来を制する－Siも、SiCも、GaNも－」湯之上隆(微細加工研究所)
招待講演「ナノ界面とマクロ挙動を繋ぐ感性と科学とシミュレーション」黒田孝二(京都工芸繊維大)
招待講演「SiCの洗浄技術について」木下博之(京都工繊大)
招待講演「溶融塩電気化学プロセスによる「炭素めっき」」辻村浩行(アイ’エムセップ)
「シリコン酸化膜の枚葉洗浄によるチャージアップ挙動」川上雅之(オルガノ)
「SiO2の固体壁面における水およびアルコールの吸着挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「ジャパンソニックでの微細化洗浄の課題」山本義治(ヤマトテクノス)
「IPA中極微量金属汚染の分析手法」伊藤雄大(東京エレクトロン)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」吉田勇喜(関東化学)