日時:2016年2月3日(水) 13:30~17:00
場所:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム:
基調講演 有馬健太准教授(大阪大学)
「極限レベルの表面創成プロセスとクリーン化技術」
ワークショップ 永渕琢也氏(日本インテグリス)
CROSS東海およびJ-PARC訪問 (2016.1)
第4回吸着WG検討会 (2015.11)
日時:2015年11月27日(金) 10:00~17:00
場所:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム:
基調講演 泉克文氏(泉特許事務所所長)
「暗黙知の見える化」
総括ワークショップ
第2回乾燥WG検討会 (2015.10)
日時:2015年10月2日(金) 14:00~17:00
場所:関東化学株式会社 本社
プログラム:
佐藤正秀准教授(宇都宮大学 物質科学専攻)
「ぬれ性のメカニズムと測定・制御技術」
ディスカッション
第19回カサロス (2015.9 名古屋)
第17回講演会 [応物シンポジウム] (2015.9 名古屋)
本講演会は2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界面ナノ電子化学 進化する半導体ウェットプロセス ~シリコンから化合物まで~」として開催されました.
日時:2015年9月13日(水) 13:15~17:45
会場: 名古屋国際会議場
「オープニング:界面ナノ電子化学研究会の意義」荒木浩之(SCREEN SPE)
招待講演「パワーを制する者が未来を制する-Siも、SiCも、GaNも-」湯之上隆(微細加工研究所)
招待講演「ナノ界面とマクロ挙動を繋ぐ感性と科学とシミュレーション」黒田孝二(京都工芸繊維大)
招待講演「SiCの洗浄技術について」木下博之(京都工繊大)
招待講演「溶融塩電気化学プロセスによる「炭素めっき」」辻村浩行(アイ’エムセップ)
「シリコン酸化膜の枚葉洗浄によるチャージアップ挙動」川上雅之(オルガノ)
「SiO2の固体壁面における水およびアルコールの吸着挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「ジャパンソニックでの微細化洗浄の課題」山本義治(ヤマトテクノス)
「IPA中極微量金属汚染の分析手法」伊藤雄大(東京エレクトロン)
「クロージング:シンポジウム閉会にあたって」吉田勇喜(関東化学)


第3回吸着WG検討会 (2015.8)
日時:2015年8月28日(金) 13:30~17:00
場所:東京エレクトロン株式会社 本社
プログラム:
講演 川端克彦氏(イアス)
「IPA中のメタル分析のための前処理方法」
講演 溝口勝男氏(アジレント・テクノロジー)
「IPA中のメタル分析のためのICPMS分析技術」
ワークショップ 斉藤美佐子氏(東京エレクトロン)
第4回水のチャージアップWG討論会 (2015.8)
日時:2015年8月20日(木) 14:00~17:00
場所:オルガノ株式会社 本社
プログラム:
星野勝義教授(千葉大学大学院 融合科学研究科)
「絶縁性高分子フィルムの摩擦帯電現象について」
第2回吸着WG検討会 (2015.6)
日時:2015年6月18日(木) 13:00~17:00
場所:関東化学株式会社 本社
プログラム:
講演 亀田恭男教授(山形大学 理学部)
「非水溶媒中の金属形態」
ワークショップ 菅原広氏(オルガノ)
第1回吸着WG検討会 (2015.4)
日時:2015年4月24日(金) 13:00~17:30
場所:京都大学 思修館(東一条館)
プログラム:
基調講演 山口栄一教授(京都大学 総合生存学館)
「サイエンスイノベーション 現象解明と暗黙知の共鳴場」
セミナー 森良弘氏(堀場製作所)
「薬液中金属不純物のSiウェーハ表面への吸着」
ワークショップ 近藤郁氏(RION)