第17回講演会 [応物シンポジウム] (2015.9 名古屋)

本講演会は2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界面ナノ電子化学　進化する半導体ウェットプロセス　～シリコンから化合物まで～」として開催されました．

日時：2015年9月13日(水) 13:15～17:45
会場： 名古屋国際会議場

「オープニング：界面ナノ電子化学研究会の意義」荒木浩之(SCREEN SPE)
招待講演「パワーを制する者が未来を制する－Siも、SiCも、GaNも－」湯之上隆(微細加工研究所)
招待講演「ナノ界面とマクロ挙動を繋ぐ感性と科学とシミュレーション」黒田孝二(京都工芸繊維大)
招待講演「SiCの洗浄技術について」木下博之(京都工繊大)
招待講演「溶融塩電気化学プロセスによる「炭素めっき」」辻村浩行(アイ’エムセップ)
「シリコン酸化膜の枚葉洗浄によるチャージアップ挙動」川上雅之(オルガノ)
「SiO2の固体壁面における水およびアルコールの吸着挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「ジャパンソニックでの微細化洗浄の課題」山本義治(ヤマトテクノス)
「IPA中極微量金属汚染の分析手法」伊藤雄大(東京エレクトロン)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」吉田勇喜(関東化学)

第3回吸着WG検討会 (2015.8)

日時：2015年8月28日(金) 13：30～17：00
場所：東京エレクトロン株式会社 本社
プログラム：
講演 川端克彦氏(イアス)
「IPA中のメタル分析のための前処理方法」
講演 溝口勝男氏(アジレント・テクノロジー)
「IPA中のメタル分析のためのICPMS分析技術」
ワークショップ 斉藤美佐子氏(東京エレクトロン)

第1回吸着WG検討会 (2015.4)

日時：2015年4月24日(金) 13：00～17：30
場所：京都大学 思修館(東一条館)
プログラム：
基調講演 山口栄一教授(京都大学 総合生存学館)
「サイエンスイノベーション 現象解明と暗黙知の共鳴場」
セミナー 森良弘氏(堀場製作所)
「薬液中金属不純物のSiウェーハ表面への吸着」
ワークショップ 近藤郁氏(RION)

第1回ポスター発表展 (2015.3 厚木)

■開催趣旨：本研究会は界面ナノ現象を明らかにすることでウェットプロセスに関する学問を構築し，次世代へと教育できる環境を整えています．同時に本研究会成果物の実行者である若手の主体性が極めて重要です．そこで「若手のポスター発表展 －ベテランとの議論に打ち勝て！－」と題し，若手に発表の機会を与え，発表形式をポスターとすることによりベテラン技術者とのFace to faceの議論を通じ，若手の主体性強化を目的とし発表展を企画します．

日時：2015年3月10日(火) 13:00～17:30
会場： プロミティあつぎビル 1F 小ホール

13:00～13:15「開会の辞」吉水康人(東芝)
13:15～13:45「各発表者から1分間のショートプレゼン」
14:00～16:35「ポスターセッション」
16:45～17:15「事務連絡」「表彰」
17:15～17:30「閉会の辞」

本ポスター発表展にて，最優秀賞には住谷まり子氏(東芝)，優秀賞には蘆立浩明氏(東芝)，堀家千代子氏(関東化学)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第18回カサロス(懇親会)を開催しました．