第2回ポスター発表展 (2016.3 慶應大)

日時：2016年3月18日(金) 13:00～17:30
会場： 慶應義塾大学 日吉キャンパス(来往舎)
資料：案内パンフレット

(1)13:00～13:15「開会の辞」吉水康人(東芝)
(2)13:15～13:45「各発表者から1分間のショートプレゼン」
(3)14:00～16:20「ポスターセッション」
(4)16:30～16:45「表彰」「写真撮影」
(5)16:45～17:00「閉会の辞」

本ポスター発表展にて，優秀講演賞には近藤智貴氏(慶應義塾大学)が選ばれました．また本会において，貢献賞を冨田寛氏(株式会社東芝)，岩元勇人氏(ソニー株式会社)に授与しました．ポスター発表展終了後には第20回カサロス(懇親会)を開催しました．

第5回吸着WG検討会 (2016.2)

日時：2016年2月3日(水) 13：30～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
基調講演 有馬健太准教授(大阪大学)
「極限レベルの表面創成プロセスとクリーン化技術」
ワークショップ 永渕琢也氏(日本インテグリス)

CROSS東海およびJ-PARC訪問 (2016.1)

2016年1月5日に当研究会メンバーが茨城県東海村のCROSS東海(総合科学研究機構 東海事業センター )およびJ-PARC(大強度陽子加速器施設)を訪問しました．J-PARCでは世界最高クラスの陽子ビームで生成する2次粒子(中性子・ミュオン・K中間子・ニュートリノなど)を用いた様々な実験を行うことができ，界面現象の解明にも用いられています．大学研究機関はもちろんのこと，民間企業の利用も可能とのことですので，何か課題があれば一度CROSS東海へご相談されてみてはいかがでしょうか．

第17回講演会 [応物シンポジウム] (2015.9 名古屋)

本講演会は2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界面ナノ電子化学　進化する半導体ウェットプロセス　～シリコンから化合物まで～」として開催されました．

日時：2015年9月13日(水) 13:15～17:45
会場： 名古屋国際会議場

「オープニング：界面ナノ電子化学研究会の意義」荒木浩之(SCREEN SPE)
招待講演「パワーを制する者が未来を制する－Siも、SiCも、GaNも－」湯之上隆(微細加工研究所)
招待講演「ナノ界面とマクロ挙動を繋ぐ感性と科学とシミュレーション」黒田孝二(京都工芸繊維大)
招待講演「SiCの洗浄技術について」木下博之(京都工繊大)
招待講演「溶融塩電気化学プロセスによる「炭素めっき」」辻村浩行(アイ’エムセップ)
「シリコン酸化膜の枚葉洗浄によるチャージアップ挙動」川上雅之(オルガノ)
「SiO2の固体壁面における水およびアルコールの吸着挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「ジャパンソニックでの微細化洗浄の課題」山本義治(ヤマトテクノス)
「IPA中極微量金属汚染の分析手法」伊藤雄大(東京エレクトロン)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」吉田勇喜(関東化学)

第3回吸着WG検討会 (2015.8)

日時：2015年8月28日(金) 13：30～17：00
場所：東京エレクトロン株式会社 本社
プログラム：
講演 川端克彦氏(イアス)
「IPA中のメタル分析のための前処理方法」
講演 溝口勝男氏(アジレント・テクノロジー)
「IPA中のメタル分析のためのICPMS分析技術」
ワークショップ 斉藤美佐子氏(東京エレクトロン)