先端半導体デバイスは構造の微細化および電子材料の多様化が急速に進んでおり，半導体製造に用いられるウェットプロセス技術の開発には，固体／液体界面における現象をナノレベルで理解することが必要となっています．本講演会では「ナノ界面現象の探求」をテーマとして，さまざまな分野の先生方にご講演頂きました．また，講演会終了後には第22回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2017年3月17日(金) 13:00～17:00
会場： 慶應義塾大学 矢上キャンパス
参加者数：約50名
資料：案内パンフレット

13:00～13:05 「開会の辞」 真田俊之（静岡大）
13:05～13:50 招待講演「真空下での乾燥に耐えるナノスーツ -含水試料のありのまま電顕観察への応用-」石井大佑(名工大)
13:50～14:35 招待講演「無電解金メッキ／電解金メッキによるナノギャップ電極」 真島豊(東工大)
14:50～15:35 招待講演「半導体クリーン化一筋 30年の軌跡(日本，アジア大企業奮闘記)」 白水好美(オフィスシラミズ)
15:35～16:20 招待講演「拡張ナノ流体デバイスと溶液物性」 馬渡和真(東京大)
16:30～16:55 オープンディスカッション
16:55～17:00 「閉会の辞」