本講演会は2014年秋季 第75回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『界面ナノ電子化学：半導体ウェットプロセスの最前線』として開催されました．

日時：2014年9月17日(水) 13:30～17:30
会場： 北海道大学 札幌キャンパス

「オープニング： シンポジウム開催にあたって」矢野大作(オルガノ)
招待講演「III-V族化合物半導体の電気化学エッチングと微細加工への応用」佐藤威友(北大量集セ)
招待講演「洗浄プロセス要求品質を検討する新しい取り組み -STRJ・SEMI・INE連携の必要性–」冨田寛(東芝S&S社)
「PVAブラシの粘弾性と摩擦特性」真田俊之(静大)
「枚葉洗浄SystemにおいてWafer帯電除去の課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)
「150℃硫酸中におけるフィルターの除粒子性能評価方法の検討」高倉知征(日本ポール)
招待講演「溶液との界面化学に基づく次世代半導体表面の原子レベル構造制御」有馬健太(阪大院工)
「半導体プロセスを用いたナノギャップ電極の作製」吉水康人(東芝)
「Cu表面の異常酸化メカニズムの研究」林浩平(和光純薬工業)
「薬液中の低濃度溶存酸素モニタリング」井上健太郎(堀場アドバンスドテクノ)
「SiO2の固体壁面近傍における水およびアルコールの挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」真田俊之(静岡大)

本講演会は半導体素子の次世代構造および材料について，第一線で活躍されている先生より講演をして頂き，最先端でどのような研究がなされているかを，学び情報共有できる「場」を提供することを目的として行われました．また，講演会終了後には第16回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2014年3月17日(月) 13：30～16：30
会場：東京工業大学 すずかけ台キャンパス すずかけホール集会室1
参加者： 53名

13:30～13:35「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:35～15:05「低消費電力LSI向けデバイス技術動向(仮)」若林整(東工大)
15:20～16:20「ポストシリコン半導体における界面制御技術」細井卓治(大阪大)
16:20～16:25「閉会の辞」萩本賢哉(ソニー)

本講演会は2013年秋季 第74回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題』として開催されました．

日時：2013年9月16日(月) 13:00～17:15
会場： 同志社大学 京田辺キャンパス C11(TC3 2F-210)

「新材料を用いたデバイス構造における洗浄プロセス設計の課題」岩元勇人(ソニー)
「先端半導体メモリにおける洗浄技術の課題」小川義宏(東芝セミコンダクター＆ストレージ社 先端メモリ開発センター)
「ナノスケールのスリット内への液体浸入に関する分子動力学解析(第2報: 残留ガスの影響)」山口康隆(阪大院工)
「微小空間におけるウェットエッチング挙動の考察(2)」奥山敦(ソニーセミコンダクタ)
「超臨界二酸化炭素中の微粒子挙動」菅原広(オルガノ)
「CMP後洗浄用PVAブラシの摩擦特性」真田俊之(静大工)
「不純物対応洗浄プロセスの課題」明星裕也(パナソニック)
「半導体デバイスにおけるダメージレス洗浄の課題」田中盛光(ルネサスエレ)
「水のチャージアップWG第2期活動報告」矢野大作(オルガノ)
「吸光分光法を用いたCMPスラリー中過酸化水素濃度のインライン測定」高木想(堀場製作所)
「環境負荷削減対応用、枚葉で常温洗浄真空乾燥の研究開発」山本義治(ヤマトテクノス)
「枚葉洗浄Systemの課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)