■微小パーティクル除去と微細LSIパターン倒壊防止

日時：2009年3月31日
場所：スター研修センター(御茶ノ水)

「ITRSの要求値と洗浄技術」津金賢(株式会社日立製作所)
「パターンダメージレス・微小パーティクル除去・洗浄・乾燥技術は実現可能か」冨田寛(株式会社東芝セミコンダクター社)
「微細化に伴う洗浄プロセスの課題、及び2流体洗浄の限界」菅野至(株式会社ルネサステクノロジ)
「物理洗浄とパターン倒壊」佐藤雅伸(大日本スクリーン製造株式会社)
「超音波洗浄とモノづくり」岡野勝一(株式会社カイジョー)
「微細化に伴う洗浄の限界について～All-Wetのレジスト剥離技術～」爾見聡(アプリシアテクノロジー株式会社)
「微細パターン洗浄技術～枚葉式洗浄装置の課題～」菊池勉(芝浦メカトロニクス株式会社)