本講演会は2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界面ナノ電子化学　進化する半導体ウェットプロセス　～シリコンから化合物まで～」として開催されました．

日時：2015年9月13日(水) 13:15～17:45
会場： 名古屋国際会議場

「オープニング：界面ナノ電子化学研究会の意義」荒木浩之(SCREEN SPE)
招待講演「パワーを制する者が未来を制する－Siも、SiCも、GaNも－」湯之上隆(微細加工研究所)
招待講演「ナノ界面とマクロ挙動を繋ぐ感性と科学とシミュレーション」黒田孝二(京都工芸繊維大)
招待講演「SiCの洗浄技術について」木下博之(京都工繊大)
招待講演「溶融塩電気化学プロセスによる「炭素めっき」」辻村浩行(アイ’エムセップ)
「シリコン酸化膜の枚葉洗浄によるチャージアップ挙動」川上雅之(オルガノ)
「SiO2の固体壁面における水およびアルコールの吸着挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「ジャパンソニックでの微細化洗浄の課題」山本義治(ヤマトテクノス)
「IPA中極微量金属汚染の分析手法」伊藤雄大(東京エレクトロン)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」吉田勇喜(関東化学)