若手技術者ポスターセッション
～経営者・先輩に学ぶWebフォーラム～

【開催趣旨】半導体を中心とする電子デバイスのプロセス技術において、材料表面を清浄化・改質する技術はデバイス界面の信頼性に対して極めて重要である。また、ウェットプロセスを用いた新規なエッチングや薄膜を形成する技術は、デバイスの微細化・三次元化のひとつのテクノロジードライバである。本研究会は界面ナノ現象を明らかにすることでウェットプロセスに関する学問を構築し、次世代へと教育できる環境を整えている。同時に本研究会成果物の実行者である若手の主体性が極めて重要であることから、若手の主体性強化を目的としたポスター発表展を2015年より企画している。若手技術者とベテラン技術者との活発な議論を期待して、オンライン上にて、招待講演とポスターセッションの2部構成で開催する。

主催：公益社団法人 応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会
協賛：一般社団法人 日本半導体製造装置協会
日時：2020年11月20日(金) 13:00～17:00
会場：オンライン(zoom)
資料：案内パンフレット

プログラム：
■招待講演
株式会社 FLOSFIA 代表取締役社長 人羅 俊実 氏
若手技術者への「アンチ技術」の勧め ～アウトプット思考・社会実装思考～
■ポスターセッション

本フォーラムにて，優秀講演賞に深谷天氏(ソニーセミコンダクタソリューションズ)が選ばれました．

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