2009年5月20日（水） 13:30-17:00
第112回 研究集会
2009年2月22日から2月27日に米国サンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2009のレビューを行なう。今回は分野毎の概要報告とトピックスに関して、各分野の専門家にご講演を頂く。
開催場所
中小企業会館
（東京都中央区銀座2-10-18）| テーマ | SPIE Advanced Lithography 2009特集 |
|---|---|
| 参加費 | 通常分科会員￥2000 非分科会員￥4000 |
| オーガナイザー | 井谷俊郎 （Selete） |
| 共催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
プログラム
(1) 会議全体報告 （EUVA 岡崎信次）
(2) Alternative Lithographic Technologies （ニコン 鈴木一明）
(3) Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography （日立中研 松井 都）
(4) Advances in Resist Materials and Processing Technology（東京応化 岩井 武）
(5) Optical Microlithography（キヤノン 辻田好一郎）
(6) Design for Manufacturability through Design-Process Integration（ルネサス 細野邦博）