2012年5月24日（木） 13：00-17：30
第147回 研究集会
2012年2月12日から2月16日に米国サンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2012のレビューを行なう。今回は分野毎の概要報告とトピックスに関して、各分野の専門家にご講演を頂く。
開催場所
ハロー会議室新富町
東京都中央区新富2丁目14番17号 新光第一ビル7F http://www.hello-mr.net/chuo-city/shintomicho01/index.html| テーマ | SPIE Advanced Lithography 2012特集 |
|---|---|
| 参加費 | 通常分科会員2000円，非分科会員4000円 |
| オーガナイザー | 古澤孝弘（大阪大学） |
| 共催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
プログラム
(1) 会議全体報告 （ギガフォトン 岡崎信次）
(2) Optical Microlithography （キヤノン 高橋和弘）
(3) EUV Lithography （ニコン 村上勝彦）
(4) Advances in Resist Materials and Processing Technology （JSR 川上峰規）
(5) Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography （日立ハイテクノロジーズ 池上 透）
(6) Alternative Lithographic Technologies -DSA （東京エレクトロン 永原誠司）
(7) Alternative Lithographic Technologies -NIL （富士フィルム 下畠孝二）
(8) Alternative Lithographic Technologies -ML2 （e-Shuttle 丸山隆司）
(9) Design for Manufacturability through Design-Process Integration （東芝 小谷敏也）