2013年5月24日（金） 13:00-17:30
第160回 研究集会
| テーマ | SPIE Advanced Lithography 2013 特集 |
|---|---|
| 参加費 | 通常分科会員2000円，非分科会員4000円 |
| オーガナイザー | 原田哲男（兵庫県立大学） |
| 主催 | シリコンテクノロジー分科会 リソグラフィ研究委員会 |
| 共催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
プログラム
(1) 会議全体報告
ギガフォトン 岡崎信次
(2) Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
ニコン 村上勝彦
(3) Alternative Lithographic Technologies - DSA
東京エレクトロン 永原誠司
(4) Alternative Lithographic Technologies - NIL
大日本印刷 林直也
(5) Alternative Lithographic Technologies - ML2
アドバンテスト 山田章夫
(6) Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
日立ハイテクノロジーズ 加藤毅
(7) Advances in Resist Materials and Processing Technology
富士フイルム 樽谷晋司
(8) Optical Microlithography
ニコン 青山肇
(9) Design for Manufacturability through Design-Process Integration
東芝 小林幸子
(10) Advanced Etch Technology for Nanopatterning
日立製作所 佐竹真
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