2014年5月22日(木) 13:00-17:00
第171回 研究集会
| テーマ | SPIE Advanced Lithography 2014 特集 |
|---|---|
| 参加費 | 通常分科会員2000円，非分科会員4000円 |
| オーガナイザー | 原田哲男 兵庫県立大学 |
| 主催 | シリコンテクノロジー分科会 リソグラフィ研究委員会 |
| 共催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
プログラム
① 会議全体報告
ギガフォトン 岡崎信次
② Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
ニコン 村上勝彦
③ Alternative Lithographic Technologies
EUVL基盤開発センター 佐藤寛暢
④ Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
日立ハイテクノロジーズ 岡川豊
⑤ Optical Microlithography
キヤノン 辻田好一郎
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