2015年5月21日(木) 13:00-17:30
第181回 研究集会
| テーマ | SPIE Advanced Lithography 2015 特集 |
|---|---|
| 参加費 | 通常分科会員2000円，非分科会員4000円 |
| 担当 | 原田哲男（兵庫県立大学） |
| 共催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
プログラム
① 会議全体報告
ギガフォトン 岡崎信次
②Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
ギガフォトン 山崎卓
③Alternative Lithographic Technologies
キヤノン 関淳一
④Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
日立ハイテクノロジーズ 岡川豊
⑤Advances in Patterning Materials and Processes
EIDEC 藤森亨
⑥Optical Microlithography
ニコン 松山知行
⑦Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability
東芝 野嶋茂樹
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