2018年11月26日(月) 13:00-18:00
第212回研究集会
開催場所
応用物理学会 応物会館 3階会議室 (根津神社の真ん前)
東京メトロ 千代田線 根津駅（1番出口より徒歩6分）東京メトロ 南北線 東大前駅（1番出口より徒歩7分）
根津神社の真ん前に応物会館がございます。 https://www.jsap.or.jp/about_jsap/office
| テーマ | 半導体素子におけるフォノンのダイナミクスとエンジニアリング |
|---|---|
| 参加費 | シリテク分科会会員2,000円，その他4,000円 |
| 担当 | 寒川誠二（東北大）、野村政宏（東大）、遠藤和彦（産総研） |
| 主催 | シリコンナノテクノロジー委員会 |
| WebサイトURL | https://annex.jsap.or.jp/silicon/activity/studyGroup/212 |
プログラム
13:00-13:05 はじめに
(1)13:05-13:40
[招待講演] 「ナノスケールサーマルマネージメントとは」
馬場 寿夫 科学技術振興機構
(2)13:40-14:15
[招待講演] 「MOSトランジスタにおけるキャリアのフォノン散乱」
高木 信一 東京大学
(3)14:15-14:50
[招待講演] 「電子フォノン相互作用の第一原理計算」
南谷 英美 東京大学
(4)15:00-15:35
[招待講演] 「電子とフォノンのマルチフィジクスシミュレーション」
森 伸也 大阪大学
(5)15:35-16:10
[招待講演] 「ナノ構造半導体チャネルにおける電子－フォノン散乱」
内田 建 慶応大学
(6)16:10-16:45
[招待講演] 「無欠陥ナノ周期構造による半導体チャネルのフォノン場制御」
寒川 誠二 東北大学
(7)16:45-17:20
[招待講演] 「３ω法によるナノスケール熱伝導率の測定とフォノン輸送の制御」
山本 淳 産業技術総合研究所
(8)17:20-17:55
[招待講演] 「ナノ構造化によるシリコン薄膜のフォノン輸送制御」
野村 政宏 東京大学
(1)13:05-13:40
[招待講演] 「ナノスケールサーマルマネージメントとは」
馬場 寿夫 科学技術振興機構
(2)13:40-14:15
[招待講演] 「MOSトランジスタにおけるキャリアのフォノン散乱」
高木 信一 東京大学
(3)14:15-14:50
[招待講演] 「電子フォノン相互作用の第一原理計算」
南谷 英美 東京大学
(4)15:00-15:35
[招待講演] 「電子とフォノンのマルチフィジクスシミュレーション」
森 伸也 大阪大学
(5)15:35-16:10
[招待講演] 「ナノ構造半導体チャネルにおける電子－フォノン散乱」
内田 建 慶応大学
(6)16:10-16:45
[招待講演] 「無欠陥ナノ周期構造による半導体チャネルのフォノン場制御」
寒川 誠二 東北大学
(7)16:45-17:20
[招待講演] 「３ω法によるナノスケール熱伝導率の測定とフォノン輸送の制御」
山本 淳 産業技術総合研究所
(8)17:20-17:55
[招待講演] 「ナノ構造化によるシリコン薄膜のフォノン輸送制御」
野村 政宏 東京大学