2025年2月19日(水) 10:00-17:00
第255回 研究集会 多層配線システム研究委員会
開催場所
ハイブリッド開催
■現地開催場所:東京大学 本郷/工学部4号館/3階42教室(先着50名)
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_05_j.html
■オンライン:Zoom(予定)
テーマ | 配線・実装技術と関連材料技術 |
---|---|
参加費 | ・シリテク分科会会員 2,000円 ・その他 5,500円 ・学生 無料 ・エレクトロニクス実装学会会員 2,000円 ・シリコン継続会員,シリコンテクノロジー分科会特別会員・賛助会員 無料 |
共催 | 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会(SDM) |
協賛 | エレクトロニクス実装学会 |
お問い合わせ先 | アプライド・マテリアルズ・ジャパン 松永範昭 noriaki_matsunaga@amat.com |
プログラム
--- 10:00-10:10 開会 ---(10分)
10:10-10:50
[招待講演]サブトラクティブ法により形成したRuトップビア配線の開発
~ 最小幅9nmのエアギャップを有するRuトップビア配線によるRC性能および信頼性の向上 ~
○本山幸一(アイビーエム)(Remote講演)
10:50-11:30
[招待講演]3Dフラッシュメモリのスケーラビリティと高信頼性を可能にするフッ素フリーワードラインモリブデンプロセス
○福島 崇(キオクシア)
11:30-12:10
[招待講演]3D半導体製造におけるWetプロセスの重要性の高まり
○佐藤智久(SCREEN)
--- 12:10-13:20 昼食 ---(70分)
13:20-14:00
[招待講演]ポリマー/Cuハイブリッド接合における表面形状制御
○中村雄三(横浜国大/三井化学)・近藤悠介・端山健太・ファビアナ リエ 田中・井上史大(横浜国大)
14:00-14:40
[招待講演]2.5D大画面Siインターポーザにおける次世代高密度配線の実現に向けた研究
○水谷将樹・篠田健一郎・森 堅一郎(キヤノン)
14:40-15:20
[招待講演]高速高精度なD2Wハイブリッドボンディングシステムの開発
○三原健太郎・晴 孝志・三好貴之・酒井博文・青木進平・寺田豊治(東レエンジニアリング)・橋本宏之・マリアッパン ムルゲサン・木野久志・田中 徹・福島誉史(東北大)・井上史大(横浜国大)・上殿明良(筑波大)
--- 15:20-15:30 休憩 ---(10分)
15:30-16:10
[招待講演]高平坦・超低温硬化を特徴とした最先端パッケージ用感光性ポリイミド
○神原武彦・吉澤篤太郎・朝田 晧・松川大作(HDM)
16:10-16:50
[招待講演]高放熱性3D Chipletに向けた高熱伝導AlN膜の研究
○高木 剛・二宮健生・丹羽正昭・小原聡顕・百瀬 健・霜垣幸浩・野村政宏・藤岡 洋(東大)・森 正和(龍谷大)・黒田忠広(東大)
--- 16:50-17:00 閉会 ---(10分)
10:10-10:50
[招待講演]サブトラクティブ法により形成したRuトップビア配線の開発
~ 最小幅9nmのエアギャップを有するRuトップビア配線によるRC性能および信頼性の向上 ~
○本山幸一(アイビーエム)(Remote講演)
10:50-11:30
[招待講演]3Dフラッシュメモリのスケーラビリティと高信頼性を可能にするフッ素フリーワードラインモリブデンプロセス
○福島 崇(キオクシア)
11:30-12:10
[招待講演]3D半導体製造におけるWetプロセスの重要性の高まり
○佐藤智久(SCREEN)
--- 12:10-13:20 昼食 ---(70分)
13:20-14:00
[招待講演]ポリマー/Cuハイブリッド接合における表面形状制御
○中村雄三(横浜国大/三井化学)・近藤悠介・端山健太・ファビアナ リエ 田中・井上史大(横浜国大)
14:00-14:40
[招待講演]2.5D大画面Siインターポーザにおける次世代高密度配線の実現に向けた研究
○水谷将樹・篠田健一郎・森 堅一郎(キヤノン)
14:40-15:20
[招待講演]高速高精度なD2Wハイブリッドボンディングシステムの開発
○三原健太郎・晴 孝志・三好貴之・酒井博文・青木進平・寺田豊治(東レエンジニアリング)・橋本宏之・マリアッパン ムルゲサン・木野久志・田中 徹・福島誉史(東北大)・井上史大(横浜国大)・上殿明良(筑波大)
--- 15:20-15:30 休憩 ---(10分)
15:30-16:10
[招待講演]高平坦・超低温硬化を特徴とした最先端パッケージ用感光性ポリイミド
○神原武彦・吉澤篤太郎・朝田 晧・松川大作(HDM)
16:10-16:50
[招待講演]高放熱性3D Chipletに向けた高熱伝導AlN膜の研究
○高木 剛・二宮健生・丹羽正昭・小原聡顕・百瀬 健・霜垣幸浩・野村政宏・藤岡 洋(東大)・森 正和(龍谷大)・黒田忠広(東大)
--- 16:50-17:00 閉会 ---(10分)