2025年2月19日(水) 10:00-17:00

第255回 研究集会 多層配線システム研究委員会

開催場所

ハイブリッド開催
■現地開催場所:東京大学 本郷/工学部4号館/3階42教室(先着50名)
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_05_j.html
■オンライン:Zoom(予定)

テーマ 配線・実装技術と関連材料技術
参加費 ・シリテク分科会会員 2,000円
・その他 5,500円
・学生 無料
・エレクトロニクス実装学会会員 2,000円
・シリコン継続会員,シリコンテクノロジー分科会特別会員・賛助会員 無料
共催 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
協賛 エレクトロニクス実装学会
お問い合わせ先 アプライド・マテリアルズ・ジャパン 松永範昭
noriaki_matsunaga@amat.com

プログラム

--- 10:00-10:10 開会 ---(10分)

10:10-10:50
[招待講演]サブトラクティブ法により形成したRuトップビア配線の開発
~ 最小幅9nmのエアギャップを有するRuトップビア配線によるRC性能および信頼性の向上 ~
○本山幸一(アイビーエム)(Remote講演)

10:50-11:30
[招待講演]3Dフラッシュメモリのスケーラビリティと高信頼性を可能にするフッ素フリーワードラインモリブデンプロセス
○福島 崇(キオクシア)

11:30-12:10
[招待講演]3D半導体製造におけるWetプロセスの重要性の高まり
○佐藤智久(SCREEN)

--- 12:10-13:20 昼食 ---(70分)

13:20-14:00
[招待講演]ポリマー/Cuハイブリッド接合における表面形状制御
○中村雄三(横浜国大/三井化学)・近藤悠介・端山健太・ファビアナ リエ 田中・井上史大(横浜国大)

14:00-14:40
[招待講演]2.5D大画面Siインターポーザにおける次世代高密度配線の実現に向けた研究
○水谷将樹・篠田健一郎・森 堅一郎(キヤノン)

14:40-15:20
[招待講演]高速高精度なD2Wハイブリッドボンディングシステムの開発
○三原健太郎・晴 孝志・三好貴之・酒井博文・青木進平・寺田豊治(東レエンジニアリング)・橋本宏之・マリアッパン ムルゲサン・木野久志・田中 徹・福島誉史(東北大)・井上史大(横浜国大)・上殿明良(筑波大)

--- 15:20-15:30 休憩 ---(10分)

15:30-16:10
[招待講演]高平坦・超低温硬化を特徴とした最先端パッケージ用感光性ポリイミド
○神原武彦・吉澤篤太郎・朝田 晧・松川大作(HDM)

16:10-16:50
[招待講演]高放熱性3D Chipletに向けた高熱伝導AlN膜の研究
○高木 剛・二宮健生・丹羽正昭・小原聡顕・百瀬 健・霜垣幸浩・野村政宏・藤岡 洋(東大)・森 正和(龍谷大)・黒田忠広(東大)

--- 16:50-17:00 閉会 ---(10分)
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