2025年2月27日(木) 13:00-17:50

第257回 研究集会 ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会

開催場所

■東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室

※現地参加のみ https://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_05_j.html
テーマ 先端ナノプロセスの進展と診断技術
参加費 ・シリコン継続会員,シリコンテクノロジー特別会員・賛助会員 無料
・シリテク分科会会員 2,000円
・その他 4,000円
・学生 無料
主催 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会

プログラム

(1) 13:00-13:05
開会挨拶
近藤 博基(研究委員長/九州大学)

(2) 13:05-13:50
[特別講演] 発光分光法とデータサイエンス手法による減圧プラズマの電子温度・密度計測の高度化
赤塚 洋(東京科学大)

(3) 13:50-14:25
[招待講演] 二周波容量結合型プラズマにおける電極入射高エネルギーイオンのエネルギー分解角度分布計測
豊田 浩孝(名古屋大学)

(4) 14:25-15:00
[招待講演] Reliable memory operation with low read disturb rate in the world smallest 1Selector-1MTJ cell for 64 Gb cross-point MRAM
五十嵐 太一(キオクシア韓国社)

---(休憩)---

(5) 15:20-15:55
[招待講演] 絶縁膜エッチのイノベーションと展望(絶縁膜でのALE, HARC加工先端技術とその展望について)
戸村 幕樹(東京エレクトロン宮城)

(6) 15:55-16:30
[招待講演] 高アスペクト比プロセスにおけるCF₃⁺およびWF₅⁺イオンによるSiO₂ナノホールエッチング
Hojun Kang(大阪大学)

(7) 16:30-17:05
[招待講演] ヘキサフルオロアセチルアセトンと酸素プラズマの交互サイクルを用いた銅の原子層エッチング
中谷(日立ハイテク)

(8) 17:05-17:40
[招待講演] プラズマALDにおける3次元構造内SiO2膜質分布の定量考察と最適化検討
濱野(ソニーセミコンダクタソリューションズ)

(9) 17:40-17:50
クロージング

18:00-20:00
懇親会(松本楼)
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