2007年5月11日（金） 9:30-12:30

第92回研究集会

2007年2月25日から3月2日に米国サンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2007のレビューを行なう。主なトピックスは液浸リソグラフィ、EUVリソグラフィで、各分野での専門家にご講演を頂く。

開催場所

海事センタービル

（東京都千代田区麹町４－５） http://www.transport-pf.or.jp/etc/u1_19.html

テーマ	SPIE Advanced Lithography 2007 特集
オーガナイザー	井谷俊郎　（Selete）

（１）　はじめに＆会議全体レビュー
東京工芸大学　渋谷眞人教授

（２）　露光装置関連技術
（株）ニコン　今井基勝

（３）　光源関連技術
ギガフォトン（株）　溝口　計

（４）　レジストプロセス関連技術
東京エレクトロン（株）　北野淳一

（５）　レジスト材料関連技術
東京応化工業（株）　大森克実

（６）　レジスト材料関連技術
富士フイルム（株）　増田誠也