2007年5月11日(金) 9:30-12:30

第92回 研究集会

2007年2月25日から3月2日に米国サンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2007のレビューを行なう。主なトピックスは液浸リソグラフィ、EUVリソグラフィで、各分野での専門家にご講演を頂く。

開催場所

海事センタービル

(東京都千代田区麹町4-5) http://www.transport-pf.or.jp/etc/u1_19.html
テーマ SPIE Advanced Lithography 2007 特集
オーガナイザー 井谷俊郎 (Selete)

プログラム

(1) はじめに&会議全体レビュー
東京工芸大学 渋谷眞人教授

(2) 露光装置関連技術
(株)ニコン 今井基勝

(3) 光源関連技術
ギガフォトン(株) 溝口 計

(4) レジストプロセス関連技術
東京エレクトロン(株) 北野淳一

(5) レジスト材料関連技術
東京応化工業(株) 大森克実

(6) レジスト材料関連技術
富士フイルム(株) 増田誠也

このページの上部へ