2007年5月11日(金) 9:30-12:30
第92回 研究集会
2007年2月25日から3月2日に米国サンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2007のレビューを行なう。主なトピックスは液浸リソグラフィ、EUVリソグラフィで、各分野での専門家にご講演を頂く。
テーマ | SPIE Advanced Lithography 2007 特集 |
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オーガナイザー | 井谷俊郎 (Selete) |
プログラム
(1) はじめに&会議全体レビュー
東京工芸大学 渋谷眞人教授
(2) 露光装置関連技術
(株)ニコン 今井基勝
(3) 光源関連技術
ギガフォトン(株) 溝口 計
(4) レジストプロセス関連技術
東京エレクトロン(株) 北野淳一
(5) レジスト材料関連技術
東京応化工業(株) 大森克実
(6) レジスト材料関連技術
富士フイルム(株) 増田誠也