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第13回講演会 (2013.3 芝浦工大)

本講演会は,微細化の進んだ半導体生産工程において問題となるナノ粒子について,第一線で活躍する大学等の先生を招待し講演をして頂き,最先端においてはどのような研究がなされているか,産学関係者が集い,学び,情報共有ができる「場」を提供することを目的として行われました.また,講演会終了後には第14回カサロス(懇親会)を開催しました.

日時:2013年3月22日(金) 13:00~17:00
会場:芝浦工業大学 交流棟5階501教室
参加者: 約80名 

13:00~13:10「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:10~14:10「エアロゾルナノテクノロジー:ナノ粒子の発生・計測・制御とその応用」瀬戸章文(金沢大)
14:10~14:30「ナノ粒子のキャラクタリゼーション」栩野成視(堀場製作所)
14:30~14:50「NanoVision Technology®によるナノ粒子測定(仮)」加藤和年(スペクトリス)
15:10~16:10「粒径計測の現状と標準物質の必要性」加藤晴久(産総研)
16:10~16:30「ナノ粒子測定の新たな挑戦」河野俊幸(島津製作所)
16:30~16:50「光散乱法による液体材料中粒子の測定」近藤郁(リオン)
16:50~17:00「閉会の辞」上野和良(芝浦工大)

第1回水のチャージアップWG討論会 (2013.3)

日時:2013年3月7日(木) 14:00~17:00
場所:ルネサスエレクトロニクス 相模原事業所
プログラム:
清家善之氏(旭サナック株式会社)
「純水スプレー洗浄工程における静電気の発生メカニズムとその対策」
矢野大作氏(オルガノ株式会社)
「水のチャージアップWG活動報告および研究課題の提言」

第12回講演会 [応物シンポジウム] (2012.9 愛媛大)

本講演会は2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会にて,シンポジウム『界面ナノ電子化学:産業界と学術界との界面融合へ』として開催されました.

日時:2012年9月11日 13:30~16:30
場所:愛媛大学  

「粒子シミュレーションで見た微小液滴の壁面への衝突と乾燥過程」松本充弘(京都大学)
「極低温マイクロ・ナノ固体窒素噴霧を用いたレジストはく離・洗浄特性に関する基礎研究」石本淳(東北大流体研)
「原子核乾板を用いた金属不純物のマイクロマッピング」冨田寛(東芝半導体研究開発センター)
「高速原子間力顕微鏡を用いた溶液中ナノワールドの動態観察」七里元晴,小谷則遠,兼上明美,森居隆史,岡田孝夫(生体分子計測研究所)
「気体吸着による各種材料のナノスケール評価」吉田将之(日本ベル)
「水のチャージアップWG活動報告および研究課題の提言」矢野大作(オルガノ)
「界面ナノ電子化学研究会の現在と未来」真田俊之(静岡大学)

英語名称変更

当研究会の英語名称を Nano Interface Control Electrochemical Technology (NICE) から Interfacial Nano Electrochemistry (INE) へ変更しました.

第11回講演会 (2012.3 芝浦工大)

日時:2012年3月14日(水) 13:00~17:00
場所:芝浦工業大学
後援:東京エレクトロン株式会社  

13:00~13:10「開会の辞,趣旨説明」真田俊之(静岡大学)
13:10~14:00「招待講演:固体面近傍における水のミクロの濡れと局所的な動的挙動に関する分子動力学解析」山口康隆(大阪大学)
14:00~14:50「招待講演:接触線運動における微視的物理」伊藤高啓(豊橋技術科学大学)
15:10~16:00「招待講演:気液界面で蒸発・凝縮を伴う流動現象に関する分子論的アプローチ」小林一道(北海道大学)
16:00~16:50「招待講演:電子顕微鏡応用技術によるナノ空間の流体計測の可能性」居波渉(静岡大学)
16:50~16:55「閉会の辞」上野和良(芝浦工業大学)
17:30~19:30「懇親会(カサロス)」

第2回セミナー「チャージアップ現象」(2011.12)

本セミナーは以下の通り開催しました.

目的:本セミナーは,若手技術者に半導体生産工程における「チャージアップ現象」の基礎を理解いただくとともに,半導体先端デバイス生産現場におけるチャージアップの影響について紹介し,大学においてはどのような研究がなされているか,産学関係者が集い,学び,情報共有ができる「場」を提供します.
後援:大日本スクリーン製造株式会社
日時:2011年12月6日(火)13:00~16:30
場所:新宿文化センター4F第1会議室
プログラム:
①13:00~13:05「開会の辞」真田俊之(静岡大学)
②13:05~13:15「チャージアップの問題点」田中盛光(ルネサスエレクトロニクス)
③13:15~13:25「水のチャージアップWG活動紹介」宮城雅宏(大日本スクリーン製造)
④13:25~14:05「研究紹介」八塚京子(山形大学)
⑤14:05~14:45「研究紹介」下川博文(神奈川工科大学)
⑥15:00~15:40「チャージアップの基礎と対策(仮題)」藤江昭雄(ESDコンサルタント)
⑦15:40~16:20「チャージアップの基礎と対策(仮題)」鈴木政典(テクノ菱和)
⑧16:20~16:30「閉会の辞」矢野大作(オルガノ)
⑨17:00~19:00「懇親会」

第1回セミナー「物理洗浄」

日時:(不明)
場所:(不明)
プログラム:
「MOSFET性能と洗浄技術」冨田寛(東芝)
「物理洗浄概説と蒸気2流体への応用」真田俊之(静岡大学)
「二流体ジェット洗浄と溶存ガス水メガソ洗浄」菅野至(ルネサスエレクトロニクス)
パネルディスカッション「物理洗浄の本質に迫る」モデレーター 佐藤雅伸(大日本スクリーン製造)