■固液界面現象の最前線 － 青木秀充先生追悼シンポジウム

日時：2011年8月29日(月)13：30～16：15
場所：山形大学 小白川キャンパス

「電解水から機能水へ ― 青木先生と探ったエコ洗浄」山中弘次(オルガノ株式会社)
「青木先生と研究開発した洗浄プロセス」富盛浩昭(ルネサスエレクトロニクス株式会社)
「電解硫酸によるレジスト剥離(Part2)」永井達夫(栗田工業株式会社)
「枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液膜挙動解析その２」冨田寛(株式会社東芝)
「レジスト膜の機械的強度測定と蒸気二流体による剥離」真田俊之(静岡大学)
「水のチャージアップWGの総括(2)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

震災のため中止となりました(シンポジウムは成立)

日時：2011年3月25日
場所：神奈川工科大学

■ECOに対する取り組み

日時：2010年9月15日
場所：長崎県勤労福祉会館

「製造装置メーカにおけるCO2削減取り組み」星丈治(東京エレクトロン株式会社)
「純水回収・再利用」塚本和巳(栗田工業株式会社)
「LSI製造メーカーにおける薬品の省資源化/再資源化の取組」稲垣靖史(ソニー株式会社)
「りん酸の再生，モニタリングについて」三田村塁(アプリシアテクノロジー株式会社)
「F化合物のリサイクルについて」清水和彦(オルガノ株式会社)
「チャージアップの中間報告(ワーキンググループ)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

■表面評価技術(NICE研究会昇格記念講演会)

日時：2010年3月19日
場所：市従会館(横浜市)
資料：第7回研究会講演集 巻頭言

「洗浄技術の時代がやってきた」湯之上隆(株式会社エフエーサーブ)
「半導体製造装置開発における分析/検査技術」斉藤美佐子(東京エレクトロン株式会社)
「サブ40nm世代向けアンパターンウェーハ検査技術」玉木裕介(ケーエルエー・テンコール株式会社)
「シリコンウェーハの欠陥検出と欠陥レビュー」太田英夫(株式会社日立ハイテクノロジーズ)
「汚染物質回収装置の変革～疎水面自動回収から親水面自動回収の時代へ～」櫻井良夫(有限会社NAS技研)
「化学汚染制御技術」吉澤巌(株式会社ダン・タクマ)
「ウェーハ上の表面分析技術」藪本周邦(分析工房株式会社)

■メタル対応の洗浄とウェットエッチング

日時：2009年9月11日
場所：富山県農協会館

「次世代半導体デバイス向け洗浄技術～High-k/MetalGate形成プロセス～」岩元勇人(ソニー株式会社)
「メタル対応洗浄プロセスの課題」成田賢治(パナソニック株式会社)
「微細構造に対応した洗浄液の取り組みについて」水田浩徳(和光純薬工業株式会社)
「高温下におけるイオン交換膜の架橋効果」神山哲(日本インテグリス株式会社)
「ウエハに影響を及ぼす帯電現象とそのメカニズム」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)
「帯電対策への取り組み」戸島孝之(東京エレクトロン九州株式会社)
「チャージアップによる不良事例と対策」野尻一男(ラムリサーチ株式会社)
「帯電対策についての取り組み紹介」爾見聡(アプリシアテクノロジー株式会社)