日時：2007年12月3日
場所：芝浦工業大学 豊洲キャンバス

「半導体洗浄技術に関する特許出願状況」特許庁審査官
「強い特許を実現する明細書・クレーム作成技術」速水進治(プレシオ国際特許事務所)

■新領域 界面ナノ電子化学研究グループ発足記念講演会

日時：2007年9月7日
場所：北海道大学 百年記念会館

「洗浄技術の課題」冨田寛(株式会社東芝セミコンダクター社)
「次世代デバイスに向けた洗浄技術」岩元勇人(ソニー株式会社)
「枚葉洗浄の課題」菅野至(株式会社ルネサステクノロジ)
「洗浄プロセスでの課題提起」田中盛光(NECエレクトロニクス株式会社)
「高ドーズイオン注入後の枚葉式レジスト剥離技術」萩本賢哉(ソニー株式会社)
「電解硫酸によるレジスト剥離システム」内田博章(大日本スクリーン製造株式会社)
「電気化学反応を使ったウエットプロセスの基礎」佐藤威友(北海道大学)