本講演会は半導体素子の次世代構造および材料について，第一線で活躍されている先生より講演をして頂き，最先端でどのような研究がなされているかを，学び情報共有できる「場」を提供することを目的として行われました．また，講演会終了後には第16回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2014年3月17日(月) 13：30～16：30
会場：東京工業大学 すずかけ台キャンパス すずかけホール集会室1
参加者： 53名

13:30～13:35「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:35～15:05「低消費電力LSI向けデバイス技術動向(仮)」若林整(東工大)
15:20～16:20「ポストシリコン半導体における界面制御技術」細井卓治(大阪大)
16:20～16:25「閉会の辞」萩本賢哉(ソニー)

本講演会は2013年秋季 第74回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題』として開催されました．

日時：2013年9月16日(月) 13:00～17:15
会場： 同志社大学 京田辺キャンパス C11(TC3 2F-210)

「新材料を用いたデバイス構造における洗浄プロセス設計の課題」岩元勇人(ソニー)
「先端半導体メモリにおける洗浄技術の課題」小川義宏(東芝セミコンダクター＆ストレージ社 先端メモリ開発センター)
「ナノスケールのスリット内への液体浸入に関する分子動力学解析(第2報: 残留ガスの影響)」山口康隆(阪大院工)
「微小空間におけるウェットエッチング挙動の考察(2)」奥山敦(ソニーセミコンダクタ)
「超臨界二酸化炭素中の微粒子挙動」菅原広(オルガノ)
「CMP後洗浄用PVAブラシの摩擦特性」真田俊之(静大工)
「不純物対応洗浄プロセスの課題」明星裕也(パナソニック)
「半導体デバイスにおけるダメージレス洗浄の課題」田中盛光(ルネサスエレ)
「水のチャージアップWG第2期活動報告」矢野大作(オルガノ)
「吸光分光法を用いたCMPスラリー中過酸化水素濃度のインライン測定」高木想(堀場製作所)
「環境負荷削減対応用、枚葉で常温洗浄真空乾燥の研究開発」山本義治(ヤマトテクノス)
「枚葉洗浄Systemの課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)

本講演会は，微細化の進んだ半導体生産工程において問題となるナノ粒子について，第一線で活躍する大学等の先生を招待し講演をして頂き，最先端においてはどのような研究がなされているか，産学関係者が集い，学び，情報共有ができる「場」を提供することを目的として行われました．また，講演会終了後には第14回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2013年3月22日(金) 13：00～17：00
会場：芝浦工業大学 交流棟5階501教室
参加者： 約80名　

13:00～13:10「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:10～14:10「エアロゾルナノテクノロジー：ナノ粒子の発生・計測・制御とその応用」瀬戸章文(金沢大)
14:10～14:30「ナノ粒子のキャラクタリゼーション」栩野成視(堀場製作所)
14:30～14:50「NanoVision Technology®によるナノ粒子測定(仮)」加藤和年(スペクトリス)
15:10～16:10「粒径計測の現状と標準物質の必要性」加藤晴久(産総研)
16:10～16:30「ナノ粒子測定の新たな挑戦」河野俊幸(島津製作所)
16:30～16:50「光散乱法による液体材料中粒子の測定」近藤郁(リオン)
16:50～17:00「閉会の辞」上野和良(芝浦工大)

本講演会は2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会にて，シンポジウム『界面ナノ電子化学：産業界と学術界との界面融合へ』として開催されました．

日時：2012年9月11日 13：30～16：30
場所：愛媛大学　　

「粒子シミュレーションで見た微小液滴の壁面への衝突と乾燥過程」松本充弘(京都大学)
「極低温マイクロ・ナノ固体窒素噴霧を用いたレジストはく離・洗浄特性に関する基礎研究」石本淳(東北大流体研)
「原子核乾板を用いた金属不純物のマイクロマッピング」冨田寛(東芝半導体研究開発センター)
「高速原子間力顕微鏡を用いた溶液中ナノワールドの動態観察」七里元晴，小谷則遠，兼上明美，森居隆史，岡田孝夫(生体分子計測研究所)
「気体吸着による各種材料のナノスケール評価」吉田将之(日本ベル)
「水のチャージアップWG活動報告および研究課題の提言」矢野大作(オルガノ)
「界面ナノ電子化学研究会の現在と未来」真田俊之(静岡大学)