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第18回カサロス (2015.3 厚木)

日時：2015年3月10日(火) 18:00～20:00
場所：牡蠣小屋魚炭(厚木)
参加人数：50人

第1回ポスター発表展 (2015.3 厚木)

■開催趣旨：本研究会は界面ナノ現象を明らかにすることでウェットプロセスに関する学問を構築し，次世代へと教育できる環境を整えています．同時に本研究会成果物の実行者である若手の主体性が極めて重要です．そこで「若手のポスター発表展－ベテランとの議論に打ち勝て！－」と題し，若手に発表の機会を与え，発表形式をポスターとすることによりベテラン技術者とのFace to faceの議論を通じ，若手の主体性強化を目的とし発表展を企画します．

日時：2015年3月10日(火) 13:00～17:30
会場：プロミティあつぎビル 1F 小ホール

13:00～13:15「開会の辞」吉水康人(東芝)
13:15～13:45「各発表者から1分間のショートプレゼン」
14:00～16:35「ポスターセッション」
16:45～17:15「事務連絡」「表彰」
17:15～17:30「閉会の辞」

本ポスター発表展にて，最優秀賞には住谷まり子氏(東芝)，優秀賞には蘆立浩明氏(東芝)，堀家千代子氏(関東化学)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第18回カサロス(懇親会)を開催しました．

第1回乾燥WG検討会 (2015.3)

日時：2015年3月9日(月) 15：00～17：30
場所：関東化学株式会社本社
プログラム：
立元雄治准教授(静岡大学物質工学科)
ディスカッション

ナノインタラクティブセミナー (2014.12)

本セミナーは以下の通り開催しました．

目的：「ナノの課題を見極める～問題解決プロセス～」をテーマに，参加者からの意見を募りながら相互に議論することを目的とするセミナーを開催します．日頃疑問に思う事の解明のヒントや問題解決のアプローチとして参考にして頂けると期待しています．
日時：2014年12月2日（火）15:00～17:30
場所：関東化学株式会社
講師：京都工芸繊維大学伝統みらい教育研究センター特任教授黒田孝二先生
プログラム：
(1)「学」から見た界面真田俊之
(2)「産」現場の界面課題抽出荒木浩之
(3)「学」と「産」印刷現場の液体の動きと動的な濡れ挙動黒田孝二
(4)クロージング真田俊之
懇親会：18:00～20:00

洗浄総合展 (2014.10)

洗浄総合展 2014に当研究会が展示ブースを出展しました．
【日時】10月15日～17日
【会場】国際展示場

第17回カサロス (2014.9 札幌)

日時：2014年9月17日(水) 19:00～21:00
場所：さっぽろテレビ塔
参加人数：50人

第16回講演会 [応物シンポジウム] (2014.9 北大)

本講演会は2014年秋季第75回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『界面ナノ電子化学：半導体ウェットプロセスの最前線』として開催されました．

日時：2014年9月17日(水) 13:30～17:30
会場：北海道大学札幌キャンパス

「オープニング：シンポジウム開催にあたって」矢野大作(オルガノ)
招待講演「III-V族化合物半導体の電気化学エッチングと微細加工への応用」佐藤威友(北大量集セ)
招待講演「洗浄プロセス要求品質を検討する新しい取り組み -STRJ・SEMI・INE連携の必要性–」冨田寛(東芝S&S社)
「PVAブラシの粘弾性と摩擦特性」真田俊之(静大)
「枚葉洗浄SystemにおいてWafer帯電除去の課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)
「150℃硫酸中におけるフィルターの除粒子性能評価方法の検討」高倉知征(日本ポール)
招待講演「溶液との界面化学に基づく次世代半導体表面の原子レベル構造制御」有馬健太(阪大院工)
「半導体プロセスを用いたナノギャップ電極の作製」吉水康人(東芝)
「Cu表面の異常酸化メカニズムの研究」林浩平(和光純薬工業)
「薬液中の低濃度溶存酸素モニタリング」井上健太郎(堀場アドバンスドテクノ)
「SiO2の固体壁面近傍における水およびアルコールの挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」真田俊之(静岡大)