9:25 はじめに

9:30-9:55
Siナノワイヤ MOSFETのコンパクト・モデル
名取研二（東工大）

9:55-10:20
原子スケールの構造制御技術でアプローチするシリコンナノワイヤトランジスタの開発
右田真司・森田行則・太田裕之（産業技術総合研究所）

10:20-10:45
キャリア移動度評価によるシリコンナノワイヤトランジスタの電気特性解析
佐藤創志・角嶋邦之・Parhat Ahmet・大毛利健治*・名取研二・岩井洋・山田啓作*（東工大, *早大）

10:45-11:10
SiナノワイヤへのNiシリサイド形成と過剰な侵入とその抑制に関する検討
茂森直登・佐藤創志・角嶋邦之・パールハットアヘメト・筒井一生・西山彰・杉井信之・名取研二・服部健雄・岩井洋（東工大）

休憩(15分)

11:25-11:45
金属/Si界面の偏析層によるショットキーバリアの変調：第一原理計算による化学的傾向の検討
小日向恭祐・丸田勇亮・中山隆史（千葉大）

11:45-12:05
Ge MISおよびGe/Metal接合の化学結合状態および電気的特性評価
藤岡知宏・板東竜也・大田晃生・村上秀樹・東清一郎・宮崎誠一（広島大）

12:05-12:25
分子軌道法によるGe(100)表面終端元素の検討
DongHun Lee・金島岳・奥山雅則（阪大）

昼食(60分)

13:25-13:45
原子層堆積法により作製したPrAlOの結晶構造および電気的特性
古田和也・竹内和歌奈・坂下満男・近藤博基・中塚理・財満鎭明（名大）

13:45-14:10
EOT=0.5 nm に向けた希土類MOSデバイスの高温短時間熱処理の検討
来山大祐・小柳友常・角嶋邦之・Parhat Ahmet・筒井一生・西山彰・杉井信之・名取研二・服部健雄・岩井洋（東工大）

14:10-14:35
High-k/ III-V界面の組成・構造とMIS特性との関係
安田哲二・宮田典幸・卜部友二・石井裕之・板谷太郎・前田辰郎（産総研）・山田永・福原昇・秦雅彦（住友化学）
・大竹晃浩（物質・材料研究機構）・星井拓也・横山正史・竹中　充・高木信一（東大）

14:35-15:00
GeO2/Ge 界面反応の理解に基づくGeO2膜物性の劣化現象の制御
喜多浩之*・王盛凱・李忠賢・吉田まほろ・西村知紀・長汐晃輔・鳥海明*（東大, *東大/JST）

休憩(15分)

15:15-15:35
作製後における電子局在注入による非対称パスゲートトランジスタを有する6トランジスタ型SRAMとその読み出し時安定性の向上
宮地幸祐・田中丸周平・本田健太郎・宮野信治*・竹内健（東大, 半導体理工学研究センター）

15:35-15:55
一層型SGT、積層型SGTを用いたシステムLSIのパターン面積の比較検討
小玉貴大・渡辺重佳（湘南工科大）

15:55-16:15
ユニバーサルメモリを目指した積層型NOR MRAMの検討
玉井翔人・渡辺重佳（湘南工科大）

休憩(15分)

16:30-16:50
銅酸化物超伝導体を用いたReRAMの研究　～ ペロブスカイト型ReRAMの動作解明 ～
松原勝彦・木下健太郎・花田明紘・岸田悟（鳥取大）

16:50-17:10
TiO2へのY 添加が電子状態および抵抗変化特性に与える影響
大田晃生・後藤優太・モハマドファイルズカマルザン・尉国浜・村上秀樹・東清一郎・宮崎誠一（広島大）

17:10-17:30
フェリチンタンパク質により形成したナノ粒子の抵抗変化メモリ応用
上沼睦典・川野健太郎・吉井重雄・山下一郎*・浦岡行治（奈良先端大, *パナソニック）

17:30　おわりに