2012年3月2日（金） 12:30-18:00
第144回 研究集会
今回の研究会では、半導体デバイスの基板として主流であるシリコン単結晶ウェーハについてこれまでに国家研究機関、産業界、および大学でご活躍された諸先輩方にそれぞれのシリコンへの想いを語ってもらう講演会にしようと思い、企画致しました。
これまでの学会と違った視点での研究会であり、若手の研究者・エンジニアにも議論に参加してもらいたいと思います。
| テーマ | シリコンの温故知新 ～私とシリコン～ |
|---|---|
| 参加費 | 通常分科会員 2000 円，非分科会員 4000 円 |
| オーガナイザー | 泉妻 宏治 （コバレントシリコン）、深田 直樹（物質・材料研究機構） |
| お問い合わせ先 | 学習院大学 理学部物理学科 教授 渡邉 匡人 〒171-8588 東京都豊島区目白 1-5-1 学習院大学理学部 電話： 03-3986-0221（内線 6459） E-mail： masahito@mxn.mesh.ne.jp |
プログラム
★はじめに （12:30～12:35）
★講演題目 （敬称略）
（１）シリコン融液のミステリー 未踏科学協会 木村茂行 （12:35～12:45）
（２）私のSi結晶成長研究あれこれ 信州大学 干川圭吾 （12:45～13:35）
（３）Si中での不純物拡散のinterstitialcy機構対拡散モデル 吉田半導体研究所 吉田正幸 （13:35～14:25）
（４）基礎と実用の間で： ハミルトニアンからウェーハ改質まで 新潟大学 金田 寛 （14:25～15:15）
（休憩 15min） 15:15～15:30
（５）シリコン結晶中の点欠陥挙動における諸問題について SUMCO 中村浩三 （15:30～16:20）
（６）半世紀のシリコン結晶中の点欠陥研究 信越半導体 阿部孝夫 16:20～17:10
（７）シリコンの科学と技術を支えた国際会議と海外交遊録 半導体エネルギー研究所 津屋英樹 （17:10～18:00）
★閉会にあたって
懇親会： (18:30～20:30)