2014年2月14日 13:00-

第168回研究集会

今年度、プラズマ応用関連の国際学会である AVS（米国真空学会）、DPS（ドライプロセスシンポジウム）で活躍された研究者を中心に招待し、プロセステクノロジーとデバイステクノロジーの最新動向を有機的に議論する場を提供する。

開催場所

東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室

（東京都文京区弥生 2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）

テーマ	微細加工プロセスの最前線
担当	ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会

開会 13:00

■ 超微細マスク形成 13:00－14:30
東エレ宮城本田昌伸「プラズマキュア技術と新レジスト材料による LER/LWR 改善」
東芝今村翼「DSA の加工技術」
日立製作所小藤直行「LWR 発生の理論解析」

Coffee break

■ Fin FET の加工 15:00-16:00
京大江利口浩二「Fin 型トランジスタ加工におけるプラズマ誘起 Si 基板ダメージ形成モデル」
日立製作所松井都「FinFET のゲート加工時の表面反応制御」

■ 難エッチ材の加工 16:00‐17:00
東北大木下啓蔵「MRAM 加工の最前線」
東エレ宮城西村栄一「難エッチング材加工技術の現状と課題」

総合討論

閉会 17:30

研究集会終了後、懇親会を開催します。

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