2014年2月14日 13:00-
第168回 研究集会
今年度、プラズマ応用関連の国際学会である AVS（米国真空学会）、DPS（ドライプロセスシンポジウム）で活躍された研究者を中心に招待し、プロセステクノロジーとデバイステクノロジーの最新動向を有機的に議論する場を提供する。
開催場所
東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階 大会議室
（東京都文京区弥生 2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）| テーマ | 微細加工プロセスの最前線 |
|---|---|
| 担当 | ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会 |
プログラム
開会 13:00
■ 超微細マスク形成 13:00－14:30
東エレ宮城 本田昌伸「プラズマキュア技術と新レジスト材料による LER/LWR 改善」
東芝 今村 翼「DSA の加工技術」
日立製作所 小藤直行「LWR 発生の理論解析」
Coffee break
■ Fin FET の加工 15:00-16:00
京大 江利口浩二「Fin 型トランジスタ加工におけるプラズマ誘起 Si 基板ダメージ形成モデル」
日立製作所 松井 都「FinFET のゲート加工時の表面反応制御」
■ 難エッチ材の加工 16:00‐17:00
東北大 木下啓蔵「MRAM 加工の最前線」
東エレ宮城 西村栄一「難エッチング材加工技術の現状と課題」
総合討論
閉会 17:30
研究集会終了後、懇親会を開催します。
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