2016年2月19日 13時より
第189回 研究集会
今年度、プラズマ応用に係わる国際学会であるAVS（米国真空学会）、DPS（ドライプロセスシンポジウム）、GEC（気体エレクトロニクス会議）で優れた発表をされた8名の研究者にご講演いただき、デバイスプロセスとプラズマ技術の最新動向を深く掘り下げて、有機的に議論する場を提供する。
開催場所
東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車） http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html| テーマ | 微細加工プロセスの最前線 |
|---|---|
| 参加費 | Siテクノロジー分科会会員 2000円，非会員 4000円 |
| 主催 | 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 |
| 協賛 | 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 |
| 企画 | 応物シリコンテクノロジー分科会ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会 |
| お問い合わせ先 | 東京大学大学院工学系研究科 一木 隆範 |
プログラム
開会 13:00
■特別講演■
13:10-13:50 林俊雄（名古屋大学）「計算化学の発展と応用について」
■プラズマプロセスの基礎解析■
13:50-14:20 中崎暢也（京都大学）「シースの制御と斜め入射イオンの解析」
14:20-14:50 岩尾俊彦（東京エレクトロン）「ALDプロセスのシミュレーション解析」
Coffee Break 14:50-15:10
15:10-15:40 岩瀬 拓（日立製作所）「多結晶Si／SiO2スタック構造の高アスペクト比加工における表面反応層の役割」
■超微細加工とALE■
15:40-16:10 三好信哉（日立製作所）「SiN加工のALE」
16:10-16:40 辻晃弘（東京エレクトロン）「SAC加工のALE」
16:40-17:00 総合討論
閉会
会議終了後 懇親会 (当日受付 参加費 2000円)