2020年2月14日(金) 13:00-17:05
第223回 研究集会
2019年も41th DPS(ドライプロセス国際シンポジウム)、66th AVS(米国真空学会)等において数多くのプラズマプロセスに関する研究の成果が発表されました。本研究会ではこうした最新の成果を各分野の第一線でご活躍の研究者の皆様に改めてご発表頂き、活発な討論を通じて次世代プロセス技術の方向性を共有する場を企画します。
テーマ | プラズマプロセスにおけるナノ加工精度とダメージ制御 |
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参加費 | シリテク分科会会員2,000円、一般6,000円、学生2,000円 |
主催 | 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 |
企画 | ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会 |
プログラム
13:00-13:05 開会挨拶 名古屋大学 近藤 博基(研究委員会委員長)
◆ プラズマ誘起欠陥
13:05-13:35
シリコンにおけるプラズマ誘起欠陥の発生と修復~低欠陥高品質デバイスの作製に向けて~
産総研 布村 正太
13:35-14:05
水素プラズマ曝露により Si 基板中に形成される潜在欠陥のコンダクタンス法を用いた解析
京大 久山 智弘
◆カーボンマスク
14:05-14:35
カーボンハードマスク CVD と RIE の挑戦
アプライド・マテリアルズ 越澤 武仁
14:35-15:05
ALEプロセスでのダメージ最小化に向けたイオンエネルギー分布のオンウエハモニタリングと制御
ソニー 平田 瑛子
(休憩)
◆プラズマ診断・モデリング
15:25-15:55
発光分光計測(OES)を用いたプラズマパラメータの診断
東工大 赤塚 洋
◆イットリアコーティングのプラズマ耐性
15:55-16:25
エアロゾルデポジション法で作製したイットリアコーティングのプラズマ腐食挙動
TOTO 芦澤 宏明
16:25-16:55
YOFコーティングのプラズマ耐性
東北大 後藤 哲也
16:55-17:00 クロージング
研究会終了後、懇親会
◆ プラズマ誘起欠陥
13:05-13:35
シリコンにおけるプラズマ誘起欠陥の発生と修復~低欠陥高品質デバイスの作製に向けて~
産総研 布村 正太
13:35-14:05
水素プラズマ曝露により Si 基板中に形成される潜在欠陥のコンダクタンス法を用いた解析
京大 久山 智弘
◆カーボンマスク
14:05-14:35
カーボンハードマスク CVD と RIE の挑戦
アプライド・マテリアルズ 越澤 武仁
14:35-15:05
ALEプロセスでのダメージ最小化に向けたイオンエネルギー分布のオンウエハモニタリングと制御
ソニー 平田 瑛子
(休憩)
◆プラズマ診断・モデリング
15:25-15:55
発光分光計測(OES)を用いたプラズマパラメータの診断
東工大 赤塚 洋
◆イットリアコーティングのプラズマ耐性
15:55-16:25
エアロゾルデポジション法で作製したイットリアコーティングのプラズマ腐食挙動
TOTO 芦澤 宏明
16:25-16:55
YOFコーティングのプラズマ耐性
東北大 後藤 哲也
16:55-17:00 クロージング
研究会終了後、懇親会
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