2001年7月27日(金) 13:00-17:00
第29回 研究集会
工業の現場ではKrF技術,そしてArF技術の準備が進められているが、その次に来る リソグラフィ技術について、現在提案されている各種技術の現状と将来展望を紹介して 頂き、今後の動向を探る。
| テーマ | 100ｎｍ以降のリソグラフィ技術 |
|---|---|
| オーガナイザー | ASET/EUV研究室 岡崎信次 |
プログラム
13：00-13：10 はじめに
岡崎信次氏（ASET）
13：10-13：40 VUV領域までのフォトマスクの開発状況
毛利 弘（大日本印刷）
13：40-14：10 F2リソグラフィ用レジストの研究開発状況
鳥海 実氏（Selete）
14：10-14：40 第二世代PXL技術
丸本健二氏（三菱）
14：40-15：00 休憩
15：00-15：30 ＥＰＬ技術の開発状況
平柳徳行氏（ニコン）
15：30-16：00 電子ビーム直接描画技術の研究動向
早田康成氏（日立）
16：00-16：30 低加速電子ビーム近接転写技術LEEPL
島津信生氏(リープル)
16：30-17：00 EUVリソグラフィ技術の研究開発状況
星野栄一氏（ASET)
17：15-18：30 懇親会