11：00-12：15
１）ナノテクノロジー時代に求められる高精度プロセス（15分）
：東工大・小田俊理

２）ナノテクノロジーと材料プロセッシングの融合による最先端マイクロマシン技術（30分）
：東北大学・小野崇人、江刺正喜

３）バイオ技術を利用したナノ構造の形成＝蛋白配列バイオナノプロセス＝（30分）
：松下電器産業・山下一郎

12：15-13：30　昼食休憩

13：30-15：00
４）プラズマプロセスを利用したシリコンナノテクノロジーの展開
1.分子ナノテクノロジーに向けての理論と実践/レーザーアブレーションの新展開と分子機械のための提案（30分）
：物質研究所・小松正二郎

2. 無重力アーク放電による高収率カーボンナノチューブ合成（30分）
：静岡大学・三重野哲

3. クラスタ制御プラズマCVD法によるSi薄膜の高品質化（30分）
：九州大学・ 渡辺征夫、白谷正治、古閑一憲

休憩30分

15：30-17：30
５）シリコンナノテクノロジーに新展開をもたらすプラズマプロセス
1. Sub-0.1μｍ時代の超高精度プラズマエッチングプロセス（30分）
：東京エレクトロン・輿石公

2. 高密度低エネルギー中性粒子生成技術とナノプロセス（30分）
：東北大学・ 寒川誠二

3. プラズマプロセスにおけるサブサーフェス解析とその制御（30分）
： JRCAT・山崎聡

4. ナノスケール表面反応モデリング（30分）
：京都大学・浜口智志