2002年1月31日(木) 11:00-17:30

第37回 研究集会

開催場所

東京工業大学大岡山キャンパス本館H111講義室

テーマ プラズマナノプロセス
オーガナイザー 小田俊理、寒川誠二

プログラム

11:00-12:15
1)ナノテクノロジー時代に求められる高精度プロセス(15分)
:東工大・小田俊理

2)ナノテクノロジーと材料プロセッシングの融合による最先端マイクロマシン技術(30分)
:東北大学・小野崇人、江刺正喜

3)バイオ技術を利用したナノ構造の形成=蛋白配列バイオナノプロセス=(30分)
:松下電器産業・山下一郎

12:15-13:30 昼食休憩

13:30-15:00
4)プラズマプロセスを利用したシリコンナノテクノロジーの展開
1.分子ナノテクノロジーに向けての理論と実践/レーザーアブレーションの新展開と分子機械のための提案(30分)
:物質研究所・小松正二郎

2. 無重力アーク放電による高収率カーボンナノチューブ合成(30分)
:静岡大学・三重野哲

3. クラスタ制御プラズマCVD法によるSi薄膜の高品質化(30分)
:九州大学・ 渡辺征夫、白谷正治、古閑一憲

休憩30分

15:30-17:30
5)シリコンナノテクノロジーに新展開をもたらすプラズマプロセス
1. Sub-0.1μm時代の超高精度プラズマエッチングプロセス(30分)
:東京エレクトロン・輿石公

2. 高密度低エネルギー中性粒子生成技術とナノプロセス(30分)
:東北大学・ 寒川誠二

3. プラズマプロセスにおけるサブサーフェス解析とその制御(30分)
: JRCAT・山崎聡

4. ナノスケール表面反応モデリング(30分)
:京都大学・浜口智志

終了後懇親会
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