2018年5月25日(金) 第207回研究集会「シリコン表面および酸化膜界面特性の新世代への探求」を開催いたします。
2018年 04月20日
第207回研究集会の詳細はこちら
開催場所 学習院大学 中央教育棟12階 国際会議場
日時 2018年5月25日(金) 13:30-17:45
テーマ シリコン表面および酸化膜界面特性の新世代への探求
参加費 分科会会員2,000円,応物・協賛学会会員2,000円,その他4,000円
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開催場所 学習院大学 中央教育棟12階 国際会議場
日時 2018年5月25日(金) 13:30-17:45
テーマ シリコン表面および酸化膜界面特性の新世代への探求
参加費 分科会会員2,000円,応物・協賛学会会員2,000円,その他4,000円
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