第208回研究集会の詳細はこちら

開催場所　名古屋大学 ベンチャービジネスラボラトリー 3階ベンチャーホール
日時　2018年6月25日(月) 11:00-16:55
テーマ　MOSデバイス・メモリ高性能化－材料・プロセス技術
参加費　分科会会員1,500円，応物・協賛学会会員2,000円，その他4,000円