2009年3月16日（月） 10:00-17:00
第111回 研究集会
開催場所
東京工業大学 大岡山キャンパス
（東工大の正門を入って、すぐ右手の建物）東京工業大学百年記念館フェライト会議室
（東京都目黒区大岡山2-12、大井町線或いは目蒲線大岡山駅下車） http://www.libra.titech.ac.jp/cent/welcome5.html
| テーマ | Siナノテクノロジーとスピントロニクス |
|---|---|
| 担当 | シリコンナノテクノロジー研究委員会 |
プログラム
1.（10:00-10:05）
開会の挨拶
2. （10：05-10：45）
同位体制御技術とスピン応用
伊藤 公平（慶大）
3. （10：45-11：25）
TMRロジック
羽生 貴弘（東北大）
4.（11：25-12：05）
ナノオーダー制御高性能トンネル磁気抵抗素子
湯浅 新治（産総研）
5.（13：20-14：00）
スピン電界効果トランジスタ
新田 淳作（東北大）
6.（14：00-14：40）
スピンMOSFET
菅原 聡（東工大）
7.（14：40-15：20）
分子スケールへテロ構造へ向けたカーボンナノチューブの可能性
石橋幸治（理研）
8. （15：40-16：20）
カップルドットにおける電子スピン操作
藤沢 利正（東工大）
9.（16：20－17：00）
ホイスラー合金を用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果と界面制御
安藤 康夫（東北大）
懇親会 (17:30-19:00)