コロナ禍での活動制限が早くも2年が過ぎようとしています。「半導体不足」という更なる問題も勃発し、社会情勢の不透明さが増しています。しかしながら技術・学術の領域では、半導体プロセス、デバイスの研究開発は着々と進み、革新的なアイデアとイノベーションがリリースされています。また政策や産業面でも、半導体産業を見直す流れが活発化しております。本研究会ではこうした最新の成果を各分野の第一線でご活躍の研究者の皆様に改めてご発表頂き、活発な討論を通じて次世代プロセス技術の方向性を共有する場を企画します。先のドライプロセスシンポジウム（DPS）などでは、2つの流れが注目されました。１つは機械学習・深層学習の導入の本格化です。その一方で、ALDとALEの組合せや、新しいガスの提案なども多くが報告されました。そこで本年度は、この2つの視点から新しいプロセスの“工夫”について、企業・大学で活躍されている多様な研究者の皆様をお招きし、最新の成果と昨今の研究開発の実情をご紹介いただきます。特に基調講演をお願いした東京工業大学の赤塚洋先生には、赤塚先生が長年、研究されている原子分子過程のモデリングを中心に、さらに機械学習を駆使したプロセス制御に関する産学連携の取り組みもご紹介いただきます。DPSなどで注目された若手研究者の講演なども含め、企業、大学でのプロセス研究の最先端を幅広くご紹介できる機会になると考えます。多くの皆様にご参加いただき、活発な議論をお願いできればと期待しております。

(1)　13:00～13:05
開会挨拶
名古屋大学 近藤 博基（研究委員会委員長）

(2)　13:05～13:45
[基調講演] ２原子分子気体放電プラズマの発光分光計測と原子分子過程
東京工業大学 赤塚 洋

(3)　13:45～14:15
[招待講演] プロセス開発効率向上に向けた転移学習によるエッチングレシピ自動最適化
株式会社日立製作所 高野 直人

(4)　 14:15～14:45
[招待講演] 高周波容量結合型プラズマにおける高アスペクト比キャピラリーホール底部のチャージアップ現象
名古屋大学 豊田 浩孝

−−−　休憩　−−−

(5)　15:05～15:35
[招待講演] カバレッジ制御ALDとエッチングを組み合わせた新たな高アスペクト加工形状制御技術
東京エレクトロン宮城株式会社 西塚 哲也

(6)　15:35～16:05
[招待講演] Area-selective Plasma-enhanced Atomic Layer Etching (PE-ALE) of ailicon Dioxide using a Silane Coupling Agent
名古屋大学 Airah Peraro OSONIO

(7)　16:05～16:35
[招待講演] 高アスペクト比構造用に設計された新規加工ガス ‒ メモリデバイスへの適用
株式会社エアリキードラボラトリーズ 長谷川 智

(8)　16:35～17:05
[招待講演] HFガスを使用したバッチ式ケミカルドライエッチング装置
株式会社ULVAC 橋本篤明

(9)　17:05～17:20
クロージング

・下記参加申し込みから申し込みいただき支払いが完了した方には、Zoomリンクおよびテキストのダウンロード情報をご案内いたします。
・支払済みのお申し込みはキャンセルできませんのでご了承ください。