第27回 研究集会
新しい世紀を迎えるに当たって、シリコンテクノロジー研究をとりまく環境は激しく変化している。（独立法人化に伴い、国立研究所では研究組織の再編成が行われている。産官学による新しい半導体研究開発コンソーシアムが設立されようとしている。）一方、アメリカを中心にナノテクノロジー研究の第二の波が押し寄せて来ている。このような状況の中で、わが国のシリコンナノテクノロジー研究の進むべき道を探ることが本研究会のねらいである。
開催場所
東京工業大学大岡山キャンパス西2号館4階W241講義室
| テーマ | シリコンナノテクノロジー-スケーリング則をこえて |
|---|---|
| 主催 | 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 |
| 企画 | シリコンナノテクノロジー研究委員会 委員長：小田俊理、幹事：山崎聡、深津晋、波多野睦子 |
プログラム
9:45 開会挨拶（企画の趣旨）
10:00 基調講演1（60分）：田中一宜（オングストロームテクノロジ研究機構）ナノテクノロジー研究開発-日本の課題
11:00 基調講演2（60分）：広瀬全孝（広島大）半導体技術のイノベーションとナノテクノロジー
12:00 昼食休憩（60分）
13:00 堀池靖浩（東大）シリコンナノ技術とバイオ技術
13:20 石谷明彦（ASET）The end of downscaling：集積度を上げれば処理速度が向上するのか？
13:40 田部道晴（静岡大）シリコンのナノスケール選択酸化とデバイス応用
14:10 金山敏彦（JRCAT-融合研）シリコンナノクラスターの形成と物性
14:40 川浦久雄（NEC）シリコンMOSFETの微細化限界
15:10 休憩（30分）
15:40 横山直樹（富士通）企業からみたナノテクノロジー
16:00 小田俊理（東工大）シリコンナノデバイスとネオシリコン
16:20 嶋田寿一（日立）シリコンナノ構造の制御と応用面からの期待
16:40 服部健雄（武蔵工大）シリコンナノテクノロジーへの期待
17:00 閉会
17:30-19:00 懇親会
松村正清（東工大）挨拶