第39回ドライプロセスシンポジウムDPS2017
本シンポジウムは、ドライプロセスにおける様々な物理的・化学的現象の解明を目的に、ドライプロセスの基礎から応用に携わる世界の研究者が一堂に会して、先端的成果を発表・討論し、相互の理解が深められてきた。本国際会議を通して、電気分野の基礎・材料の発展のみならず情報システム、マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、半導体デバイス、バイオテクノロジー、マイクロマシン、機能性材料を基盤とする電気・電子・情報・バイオ分野およびナノテクノロジー分野における次世代のブレークスルー的技術の創製が期待されております。
開催場所
東京工業大学蔵前会館
| テーマ | A1. Surface reactions for atomic layer controlled processes (ALE/ALD) A2. Etching technologies for latest devices having high-aspect-ratio of 50 or more (HAR） |
|---|---|
| 主催 | 第39回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会 |
| 共催 | 公益社団法人 応用物理学会 |
| お問い合わせ先 | DPS2017実行委員長 赤塚 洋（東京工業大学） 事務局 田畑 睦美 E-Mail: dps2017@officepolaris.co.jp URL: http://www.dry-process.org/2017 |
| WebサイトURL | http://www.dry-process.org/2017/ |
プログラム
•Dr. Dan Mocuta (imec)
＜招待講演者＞
•Dr. Sung-Il Cho (Samsung Electronics Co., Ltd.)
･Dr. Simon Elliott (University College Cork)
•Dr. Dennis Hausmann (Lam Research Corp.)
•Prof. Mark J. Kushner (University of Michigan)
•Dr. Aaron Wilson (Micron Technology, Inc.)
以上、6名（http://www.dry-process.org/2017/program/plenary.html 参照）
平成29年11月16日-17日、東京工業大学蔵前会館において、第39回ドライプロセスシンポジウム(39th International Symposium on Dry Process)を開催いたします。
（ホームページ： http://www.dry-process.org/2017/）
現在、投稿募集しておりますので、皆様方の発表申し込みをお待ちしております。
発表申し込みにつきましては、下記＜DPS 2017 Abstract Guidelines＞をご参照の上、On-Line Submission: https://dps-system.org/よりご提出をお願いいたします。
＜Abstract Guidelines＞
http://www.dry-process.org/2017/for_presenting_authors/abstracts_guidelines.html
【7月14日（金）】が締切りとなっております。何卒よろしくお願い申し上げます。
本年度は、
A1. Surface reactions for atomic layer controlled processes (ALE/ALD)
A2. Etching technologies for latest devices having high-aspect-ratio of 50 or more (HAR）
を特別テーマとして，下記のトピックスについての講演を募集いたします。
- ドライエッチング技術
- プラズマプロセスを用いた製造サイエンス
- 表面反応およびプラズマ誘起ダメージ
- プラズマおよび表面のモニタリングと診断技術
- モデリングとシミュレーション
- プラズマ生成技術
- 堆積製膜（PVD/CVD/ PVD/ALD）技術
- 原子層堆積技術（ALD/ALE）
- ３次元デバイス，フラットパネルディスプレイ，太陽電池へのプラズマ応用
- 新デバイス材料（メモリ、パワー、ロジックデバイス）へのプラズマ応用
- 医療、薬理作用、マイクロメカニカルエレクトロシステム（MEMS）、ナノ科学
- 大気圧、液体プラズマプロセス
- 新規のプラズマ応用技術
皆様方の奮っての発表申し込みとご参加をお願い致します。何卒よろしくお願い申し上げます。