吸着・乾燥WG合同ワークショップ第1回「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジーの深掘り」(2023.2 田町)

2022年12月にINE Linkにてご講演頂きました日立ハイテク大竹様に再登壇頂き，水の機能と役割について，より深い議論を行いました．

■2023年2月17日(金) 14:00-17:00
■場所：キオクシア本社田町ステーションタワーS
■講演
日立ハイテク大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」の深掘り
■ ファシリテータ：
　東京エレクトロン九州中森光則
　キオクシア吉水康人
■参加者数：23名

第6回 INE Link「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」(2022.12 オンライン)

INE Link第6回は，日立ハイテク大竹様よりご講演頂きました．FinFET / GAAや3D NAND / 3D DRAM構造など最先端のデバイスには3次元構造が検討されており，3次元構造を実現する等方性エッチングが強く求められています．まずドライエッチング技術で昨今検討が進むAtomic Layer Etchingについて，ガスフェーズエッチやラジカルエッチについて紹介して頂き，そのうえで，改質層を除去するドライ的アプローチと，低温化による疑似ウエットエッチアプローチを比較議論しました．今後，ウエットとドライの境界領域の学術的議論が広がり、類似性と差異の理解から新しい学問領域が生まれることを期待します．

■2022年12月9日(金) 15:00-17:00
■場所：オンライン(Zoom)
■講演
株式会社日立ハイテクプロセス東京技術センタ部長代理大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社中森光則様
■参加者数：約120名

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました．INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．

アドバイザー就任のおしらせ

2022.12.7開催の運営委員会にて，冨田寛氏(キオクシア株式会社)の当研究会アドバイザーへの就任を決定しました．

第31回カサロス (2022.9 代々木)

3年ぶりに対面でのカサロス開催となりました．

日時：2022年9月29日(木) 18:15～20:15
場所：ディプント代々木
参加人数：約60人
資料：案内パンフレット

第7回ポスター発表展 (2022.9 千駄ヶ谷)

■日時：2022年9月29日(木) 13:00～17:40
■会場：現地発表＋オンラインポスター掲載のハイブリッド形式
　ナガセグローバル人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷
■参加者：約100名
■ 資料：案内パンフレット

13:00～13:10「開会挨拶」岩元委員長
13:10～13:55「招待講演」
　佐藤雅伸氏 (株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ)
　回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション
13:55～15:00「ポスターセッション：ライトニングトーク」
15:10～17:10「ポスターセッション：ディスカッション」
17:10～17:20「INE活動予定」吉水副委員長
17:20～17:40「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長

本ポスター発表展にて，優秀講演賞に竹内鉄朗氏(大阪大学)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第31回カサロス(懇親会)を開催しました．

第5回INE Link「半導体ウェットプロセスにおけるカーボンニュートラルを考える」(2022.8 オンライン)

INE Link第5回では，カーボンニュートラルの理解を深め，半導体ウェットプロセスの分野として各企業で何ができるかを議論しました．

■日時：2022年8月31日(水)16:00～17:30
■場所：オンライン(Zoom)
■チュートリアル
「企業を取り巻く脱炭素経営環境とサプライチェーンにおけるGHG排出量について」
長瀬産業株式会社エレクトロニクス事業部電子資材部(兼)サステナビリティ推進室
担当部長山中利道様
■パネルディスカション
「半導体ウェットプロセスにカーボンニュートラルの取り組み：サプライチェーンの中で各企業で，できること」
モデレーター：
　東京エレクトロン九州株式会社　中森光則
パネリスト：
　長瀬産業株式会社　山中利道様
　長瀬産業株式会社　橋本和之様
　キオクシア株式会社　吉水康人様
■参加者数：約55名