本講演会は半導体素子の次世代構造および材料について,第一線で活躍されている先生より講演をして頂き,最先端でどのような研究がなされているかを,学び情報共有できる「場」を提供することを目的として行われました.また,講演会終了後には第16回カサロス(懇親会)を開催しました.
日時:2014年3月17日(月) 13:30~16:30
会場:東京工業大学 すずかけ台キャンパス すずかけホール集会室1
参加者: 53名
13:30~13:35「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:35~15:05「低消費電力LSI向けデバイス技術動向(仮)」若林整(東工大)
15:20~16:20「ポストシリコン半導体における界面制御技術」細井卓治(大阪大)
16:20~16:25「閉会の辞」萩本賢哉(ソニー)