本講演会は2014年秋季 第75回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『界面ナノ電子化学：半導体ウェットプロセスの最前線』として開催されました．

日時：2014年9月17日(水) 13:30～17:30
会場： 北海道大学 札幌キャンパス

「オープニング： シンポジウム開催にあたって」矢野大作(オルガノ)
招待講演「III-V族化合物半導体の電気化学エッチングと微細加工への応用」佐藤威友(北大量集セ)
招待講演「洗浄プロセス要求品質を検討する新しい取り組み -STRJ・SEMI・INE連携の必要性–」冨田寛(東芝S&S社)
「PVAブラシの粘弾性と摩擦特性」真田俊之(静大)
「枚葉洗浄SystemにおいてWafer帯電除去の課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)
「150℃硫酸中におけるフィルターの除粒子性能評価方法の検討」高倉知征(日本ポール)
招待講演「溶液との界面化学に基づく次世代半導体表面の原子レベル構造制御」有馬健太(阪大院工)
「半導体プロセスを用いたナノギャップ電極の作製」吉水康人(東芝)
「Cu表面の異常酸化メカニズムの研究」林浩平(和光純薬工業)
「薬液中の低濃度溶存酸素モニタリング」井上健太郎(堀場アドバンスドテクノ)
「SiO2の固体壁面近傍における水およびアルコールの挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」真田俊之(静岡大)

本講演会は半導体素子の次世代構造および材料について，第一線で活躍されている先生より講演をして頂き，最先端でどのような研究がなされているかを，学び情報共有できる「場」を提供することを目的として行われました．また，講演会終了後には第16回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2014年3月17日(月) 13：30～16：30
会場：東京工業大学 すずかけ台キャンパス すずかけホール集会室1
参加者： 53名

13:30～13:35「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:35～15:05「低消費電力LSI向けデバイス技術動向(仮)」若林整(東工大)
15:20～16:20「ポストシリコン半導体における界面制御技術」細井卓治(大阪大)
16:20～16:25「閉会の辞」萩本賢哉(ソニー)

本講演会は2013年秋季 第74回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題』として開催されました．

日時：2013年9月16日(月) 13:00～17:15
会場： 同志社大学 京田辺キャンパス C11(TC3 2F-210)

「新材料を用いたデバイス構造における洗浄プロセス設計の課題」岩元勇人(ソニー)
「先端半導体メモリにおける洗浄技術の課題」小川義宏(東芝セミコンダクター＆ストレージ社 先端メモリ開発センター)
「ナノスケールのスリット内への液体浸入に関する分子動力学解析(第2報: 残留ガスの影響)」山口康隆(阪大院工)
「微小空間におけるウェットエッチング挙動の考察(2)」奥山敦(ソニーセミコンダクタ)
「超臨界二酸化炭素中の微粒子挙動」菅原広(オルガノ)
「CMP後洗浄用PVAブラシの摩擦特性」真田俊之(静大工)
「不純物対応洗浄プロセスの課題」明星裕也(パナソニック)
「半導体デバイスにおけるダメージレス洗浄の課題」田中盛光(ルネサスエレ)
「水のチャージアップWG第2期活動報告」矢野大作(オルガノ)
「吸光分光法を用いたCMPスラリー中過酸化水素濃度のインライン測定」高木想(堀場製作所)
「環境負荷削減対応用、枚葉で常温洗浄真空乾燥の研究開発」山本義治(ヤマトテクノス)
「枚葉洗浄Systemの課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)

本講演会は，微細化の進んだ半導体生産工程において問題となるナノ粒子について，第一線で活躍する大学等の先生を招待し講演をして頂き，最先端においてはどのような研究がなされているか，産学関係者が集い，学び，情報共有ができる「場」を提供することを目的として行われました．また，講演会終了後には第14回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2013年3月22日(金) 13：00～17：00
会場：芝浦工業大学 交流棟5階501教室
参加者： 約80名　

13:00～13:10「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:10～14:10「エアロゾルナノテクノロジー：ナノ粒子の発生・計測・制御とその応用」瀬戸章文(金沢大)
14:10～14:30「ナノ粒子のキャラクタリゼーション」栩野成視(堀場製作所)
14:30～14:50「NanoVision Technology®によるナノ粒子測定(仮)」加藤和年(スペクトリス)
15:10～16:10「粒径計測の現状と標準物質の必要性」加藤晴久(産総研)
16:10～16:30「ナノ粒子測定の新たな挑戦」河野俊幸(島津製作所)
16:30～16:50「光散乱法による液体材料中粒子の測定」近藤郁(リオン)
16:50～17:00「閉会の辞」上野和良(芝浦工大)

本講演会は2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会にて，シンポジウム『界面ナノ電子化学：産業界と学術界との界面融合へ』として開催されました．

日時：2012年9月11日 13：30～16：30
場所：愛媛大学　　

「粒子シミュレーションで見た微小液滴の壁面への衝突と乾燥過程」松本充弘(京都大学)
「極低温マイクロ・ナノ固体窒素噴霧を用いたレジストはく離・洗浄特性に関する基礎研究」石本淳(東北大流体研)
「原子核乾板を用いた金属不純物のマイクロマッピング」冨田寛(東芝半導体研究開発センター)
「高速原子間力顕微鏡を用いた溶液中ナノワールドの動態観察」七里元晴，小谷則遠，兼上明美，森居隆史，岡田孝夫(生体分子計測研究所)
「気体吸着による各種材料のナノスケール評価」吉田将之(日本ベル)
「水のチャージアップWG活動報告および研究課題の提言」矢野大作(オルガノ)
「界面ナノ電子化学研究会の現在と未来」真田俊之(静岡大学)

日時：2012年3月14日(水) 13:00～17:00
場所：芝浦工業大学
後援：東京エレクトロン株式会社　　

13:00～13:10「開会の辞，趣旨説明」真田俊之(静岡大学)
13:10～14:00「招待講演：固体面近傍における水のミクロの濡れと局所的な動的挙動に関する分子動力学解析」山口康隆(大阪大学)
14:00～14:50「招待講演：接触線運動における微視的物理」伊藤高啓(豊橋技術科学大学)
15:10～16:00「招待講演：気液界面で蒸発・凝縮を伴う流動現象に関する分子論的アプローチ」小林一道(北海道大学)
16:00～16:50「招待講演：電子顕微鏡応用技術によるナノ空間の流体計測の可能性」居波渉(静岡大学)
16:50～16:55「閉会の辞」上野和良(芝浦工業大学)
17:30～19:30「懇親会(カサロス)」

■固液界面現象の最前線 － 青木秀充先生追悼シンポジウム

日時：2011年8月29日(月)13：30～16：15
場所：山形大学 小白川キャンパス

「電解水から機能水へ ― 青木先生と探ったエコ洗浄」山中弘次(オルガノ株式会社)
「青木先生と研究開発した洗浄プロセス」富盛浩昭(ルネサスエレクトロニクス株式会社)
「電解硫酸によるレジスト剥離(Part2)」永井達夫(栗田工業株式会社)
「枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液膜挙動解析その２」冨田寛(株式会社東芝)
「レジスト膜の機械的強度測定と蒸気二流体による剥離」真田俊之(静岡大学)
「水のチャージアップWGの総括(2)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

震災のため中止となりました(シンポジウムは成立)

日時：2011年3月25日
場所：神奈川工科大学

■ECOに対する取り組み

日時：2010年9月15日
場所：長崎県勤労福祉会館

「製造装置メーカにおけるCO2削減取り組み」星丈治(東京エレクトロン株式会社)
「純水回収・再利用」塚本和巳(栗田工業株式会社)
「LSI製造メーカーにおける薬品の省資源化/再資源化の取組」稲垣靖史(ソニー株式会社)
「りん酸の再生，モニタリングについて」三田村塁(アプリシアテクノロジー株式会社)
「F化合物のリサイクルについて」清水和彦(オルガノ株式会社)
「チャージアップの中間報告(ワーキンググループ)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)

■表面評価技術(NICE研究会昇格記念講演会)

日時：2010年3月19日
場所：市従会館(横浜市)
資料：第7回研究会講演集 巻頭言

「洗浄技術の時代がやってきた」湯之上隆(株式会社エフエーサーブ)
「半導体製造装置開発における分析/検査技術」斉藤美佐子(東京エレクトロン株式会社)
「サブ40nm世代向けアンパターンウェーハ検査技術」玉木裕介(ケーエルエー・テンコール株式会社)
「シリコンウェーハの欠陥検出と欠陥レビュー」太田英夫(株式会社日立ハイテクノロジーズ)
「汚染物質回収装置の変革～疎水面自動回収から親水面自動回収の時代へ～」櫻井良夫(有限会社NAS技研)
「化学汚染制御技術」吉澤巌(株式会社ダン・タクマ)
「ウェーハ上の表面分析技術」藪本周邦(分析工房株式会社)