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受賞者一覧 (所属は受賞時)
第3回 (2011年度)
論文賞
R. Zhang (張 睿), T. Iwasaki (岩崎 敬志), N. Taoka (田岡 紀之), M. Takenaka (竹中 充), and S. Takagi (高木 信一), Univ. Tokyo, “Al2O3/GeOx/Ge gate stack with low interface trap density fabricated by electron cyclotron resonance plasma postoxidation” Applied Physics Letters 98 (2011) 112902 (3 pages)
研究奨励賞
古橋 隆寿 ルネサスエレクトロニクス株式会社
研究奨励賞
齋藤 真澄 株式会社東芝
