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受賞者一覧 (所属は受賞時)

第3回 (2011年度)

論文賞

R. Zhang (張 睿), T. Iwasaki (岩崎 敬志), N. Taoka (田岡 紀之), M. Takenaka (竹中 充), and S. Takagi (高木 信一), Univ. Tokyo, “Al2O3/GeOx/Ge gate stack with low interface trap density fabricated by electron cyclotron resonance plasma postoxidation” Applied Physics Letters 98 (2011) 112902 (3 pages)

論文賞受賞者 (張さん、高木先生) と平本幹事長

研究奨励賞

古橋 隆寿 ルネサスエレクトロニクス株式会社

研究奨励賞受賞者 (古橋さん) と平本幹事長

研究奨励賞

齋藤 真澄 株式会社東芝

研究奨励賞受賞者 (齋藤さん) と平本幹事長

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