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受賞者一覧 (所属は受賞時)
第12回 (2020年度)
論文賞
受賞者 布村 正太1, 坂田 功1, 榊田 創1, 古閑 一憲2, 白谷 正治2
(1 産業技術総合研究所, 2 九州大学)
受賞対象論文
論文名 “Real-time monitoring of surface passivation of crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer”
雑誌名 Journal of Applied Physics, vol. 128, p. 033302 (2020).
著者名 Shota Nunomura, Isao Sakata, Hajime Sakakita, Kazunori Koga, and Masaharu Shiratani
論文賞
受賞者 奥山 亮輔, 柾田 亜由美，重松 理史，門野 武，廣瀬 諒，古賀 祥泰，奥田 秀彦，栗田 一成
（株式会社 SUMCO）
受賞対象論文
論文名 ”Diffusion kinetic of hydrogen in CH3O-molecular-ion-implanted silicon wafer for CMOS image sensors”
雑誌名 Japanese Journal of Applied Physics, vol. 57, p. 081302 (2018).
著者名 Ryosuke Okuyama, Ayumi Onaka-Masada, Satoshi Shigematsu, Takeshi Kadono, Ryo Hirose, Yoshihiro Koga, Hidehiko Okuda, and Kazunari Kurita
研究奨励賞
受賞者 濱野 誉(京都大学)
受賞対象論文
論文名 “Investigation of spatial and energy profiles of plasma process-induced latent defects in Si substrate using capacitance-voltage characteristics”
雑誌名 J. Phys. D:Appl. Phys., vol. 52, p. 455102 (2019).
著者名 Takashi Hamano, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi
研究奨励賞
受賞者 松浦 賢太朗(東京工業大学)
受賞対象論文
論文名 “Normally-off sputtered-MoS2 nMISFETs with TiN top-gate electrode all defined by optical lithography for chip-level integration”
雑誌名 Japanese Journal of Applied Physics, vol. 59, p. 080906 (2020).
著者名 Kentaro Matsuura, Masaya Hamada, Takuya Hamada, Haruki Tanigawa, Takuro Sakamoto, Atsushi Hori,Iriya Muneta, Takamasa Kawanago, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Atsushi Ogura, and Hitoshi Wakabayashi
