イベントカレンダー

研究集会

2011年度

  • 主催 第141回 研究集会

    日　時：2011年11月10日(木), 11日(金) 10:00～15:30, 10:00～17:00
    場　所：機械振興会館 地下３階 研修－１
    テーマ：プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
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  • 主催 第140回 研究集会

    日　時：2011年8月5日(金) 9:00-17:00
    場　所：東北大学流体科学研究所COE棟セミナー室
    テーマ：グリーン・ナノデバイスの新たな展開
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  • 主催 第139回 研究集会

    日　時：2011年7月21日（木） 10:00-17:10
    場　所：産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室１
    テーマ：VLSIシンポジウム特集 （先端CMOSデバイス・プロセス技術）
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  • 主催 第138回 研究集会

    日　時：2011年7月8日(金) 10:00-16:20
    場　所：大阪大学サイバーメディアセンター豊中教育研究棟(豊中キャンパス)
    テーマ：半導体モデリング・シミュレーションの新展開
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  • 主催 第137回 研究集会

    日　時：2011年7月4日 9:00-
    場　所：名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
    テーマ：ゲートスタック技術の進展－半導体機能界面の特性評価を中心に
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  • 主催 第136回 研究集会

    日　時：2011年5月27日（金） 13:30-17:30
    場　所：海事センタービル
    テーマ：SPIE Advanced Lithography 2011特集
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  • 主催 第135回 研究集会

    日　時：2011年3月7日（月） 13:30-17:00
    場　所：キャンパス・イノベーションセンター東京　多目的室２
    テーマ：先端CMOSデバイスに応えるドーパント制御・接合形成・評価技術
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  • 主催 第134回 研究集会

    日　時：2011年3月4日（金） 13:00～17:00
    場　所：学習院大学 南7号館101教室
    テーマ：先端半導体デバイスの微細化に伴うシリコン基板への要求～どこまで究極的にウェーハ平坦化が必要なのか～
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  • 主催 第133回 研究集会

    日　時：2011年2月18日 13:00～17:50
    場　所：東京大学浅野キャンパス工学部９号館１階大会議室
    テーマ：最先端プラズマプロセスにおけるダメージ/バラつき/異物制御
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  • 主催 第132回 研究集会

    日　時：2011年2月7日(月) 10:00～17:00
    場　所：機械振興会館 地下 3 階 研修 1 号室
    テーマ：配線・実装技術と関連材料技術
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